ITO蚀刻膏使用说明书
一、ito蚀刻膏（isishape HiperEtch）简介
蚀刻膏（isishape HiperEtch），可分别用于蚀刻ITO玻璃上的SiO2层，玻璃和Film上的ITO层（ito蚀刻膏），同时可为网版印刷提供优越的条件。此外，在SiO2层上的称为SiO2蚀刻膏，在ito层上的称为ito蚀刻膏。
二、蚀刻膏产品特点
（一）、ito蚀刻膏性能优异
线宽可控制到40μm
快速蚀刻工艺： 2 - 3nm/s （视具体基材）
蚀刻膏产品操作安全性高
· 荧光色 （使用UV光易检测痕迹）
· 粘性产品（无泄漏、无飞溅）
蚀刻膏产品消耗低
三、 ITO蚀刻膏工艺流程
ITO玻璃（薄膜）：在其导电层需要蚀刻的部位丝网印刷“蚀刻油墨”→烘箱烘烤→自来水/超声波清洗→烘干玻璃表面水份→蚀刻工艺完成。
本工艺流程的特点与传统的刻蚀工艺刚好相反(传统工艺中覆盖油墨部分的导电膜被保留,而本工艺覆盖刻蚀油墨的导电膜部分则被刻蚀掉)。
四、ITO蚀刻膏具体工艺步骤：
1．
将约200～400克蚀刻油墨稍稍搅拌均匀后倒至丝网印刷台面，
2．
选用网目为(250目或420目)、水性耐酸型感光胶网板进行丝网印刷，印刷范围为需要蚀刻的部位，印刷厚度为15—20um。
3．
根据ITO玻璃（薄膜）来源及导电层厚度，选用不同的蚀刻烘烤工艺，以下为本公司建议工艺，仅供参考：
1）
部分导电层厚度较薄的ITO薄膜，印刷后常温放置约20分钟即可完成蚀刻，环境湿度控制在50%左右5小时内蚀刻膏无扩散。
2）
薄膜（ITO）蚀刻温度，常温-80℃, 蚀刻时间10-20分钟。
3）
玻璃（ITO）蚀刻温度，80-120℃, 蚀刻时间10-20分钟。
4．
烘烤后放置2小时内无明显扩散。
5．
用清水冲洗蚀刻完成的ITO玻璃（薄膜）, 必要时可采用2%氢氧化钠液+超声波清洗。
6．
烘干水分，得成品。
五、ITO蚀刻膏注意事项：
1．生产环境温度控制在20-28℃,湿度45-60%。如在自然温度下蚀刻，环境湿度控制在50%左右5小时内无扩散，湿度过高，油墨可能出现扩散现象。
2．烘烤时间和温度的合理配置可以提高工作效率和节省资源，在一定范围内，蚀刻油墨会随时间的加长和温度的升高而增强蚀刻力度和增加清洗难度。如某ITO玻璃在100度烘烤10分钟时蚀刻不完全时。可以采用升温到110度10分钟、或100度15分钟均能提高蚀刻效果。
3．产品存放在阴凉干燥处、6~8°保存。保质期2~3个月。
4．本产品属酸性材料，在使用过程中务必避免与金属器具直接接触。如误入眼睛，立即用大量清水冲洗，然后就近入医院做进一步处理。
5.
本产品常温具有蚀刻能力，如不慎污染ITO膜或ITO玻璃，需立即用清水或2%氢氧化钠液清洗。
六、 ITO蚀刻膏产品特点
新工艺蚀刻方法具有比传统蚀刻方法更好的优势,蚀刻油墨印刷后不需再经强酸碱处理,不会污染环境,生产方便.有如下特点:
1．提高触摸屏蚀刻精度，线宽最小可达到50um；杜绝各类酸碱性物质对ITO的损害，提高产品良品率，产品性能可完全满足电容屏和电阻屏需求。
2．经济；节省人工、降低物料消耗,提高产品竞争力。
3．环保；针对传统工艺,减少大量废酸碱处理和排放,整个工艺无腐蚀性挥发气体,使用过程对人体及环境不构成危害。
4．安全；本产品有良好的亲水性,可用自来水喷淋方式对与之接触的器具进行清洗,且清洗后无任何残留，避免了传统工艺需用溶剂类洗网水清洗机具和网板时对人和环境的伤害及防火安全。
5．对ITO玻璃或ITO薄膜有良好的覆着力,印刷后无扩散,无收缩,无气泡。
6．简化工艺流程,提高产量和良品率。
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