本产品可替代二氧化锆形成高质量高折射率膜层，与传统二氧化锆相比，该镀膜材料克服了二氧化硅钻坑效应，及失氧赵成的折射率漂移等工艺的不稳定性。

1.该材料适用于电子束蒸发或钨舟热蒸发，材料熔点1880℃熔融蒸发，蒸发温度1600－2000℃

2.材料透光波段0.37-12，折射率可调范围n=1.92-2.2

3.材料比重1立方厘米5.37g，外光为灰色或灰色粒度，1－3mm，3－5mm，5－8mm，或10mm*5mm,特殊规格可约定制作。

4.该材料与低折射率材料（MgF2,SiO2等）很容易实现搭配，形成致密牢固的高质量光学膜层。

5.杂质分析（％）Cu 0.001    Fe 0.003    Mn 0.003  Cr 0.0001    Co 0.003    Ta 0.003    Ni 0.003     Pb  0.004