本磁控溅射镀膜系统可以沉积各种金属、半导体、非金属薄膜，又特别适合用于超导量子结、约瑟夫森结等量子器件的制备，例如：超导Nb、NbN、NbTiN等，典型用户包括：格拉斯哥大学、法国波尔多第一大学、法国科学研究中心（CNRS）、CEA、加拿大滑铁卢大学等。欢迎联系我们索取详细资料！

关键词：PVD，物理气相沉积，磁控溅射，微机电系统，MEMS, 量子器件，约瑟夫森结，Nb, NbN, NbTiN

磁控溅射镀膜系统——用于超导体（Nb, NbN, NbTiN ） 

圆柱形主腔体：电抛光不锈钢

         低温泵+干泵，真空度< 4×10 -8 Torr。

          三个6’’ DC磁控靶源，最大可达8英寸；

          分别配备独立挡板，无交叉污染。

          RF加载到DC靶源可选，可用DC/RF。

          氩气和氮气气路可用

          4’’衬底加热：最高750℃, 均匀性5℃内；单色光学高温计

          样品台冷却：水冷

          石英晶振监测（DC/RF模式下均可）

          衬底RF刻蚀及偏压（13.56MHz，气冷）

LOAD LOCK （带自动传动手臂）

          分子泵+干泵，真空度< 2×10-7 Torr

          全自动传动衬底

控制单元：全自动电脑控制，半自动和手动模式可选；远程维护可用。