材　　料:Ge  (锗)


设计波长:8—14nm


曲率公差:±0.3%


外型公差:+0.0/-0.1mm


厚度公差:±0.05mm


面　　形:λ/2@632.8nm


局部面形：　＜0.2


光洁度:40/20


偏　　心:<1'


有效孔径:>98%


倒　　边:<0.2×45°


镀　　膜: 按客户要求