◇ 操作说明
     在正常的操作下，材料的氧化膜每封孔1Mic需要1Min，但是实际上当氧化膜厚度超过12Mics时，最多也只能12Mins。在所有的工艺中，封孔前都需要用去离子水冲洗。由于工艺中的化学反应速度很慢，封孔的效果只有在存放24h以后才能达到令人满意的程度，而且在存放的头三天内还会不断地迅速改善。如果被封孔材料能用50-55℃的热去离子水浸泡10Mins，反应速度会大大地加快。

◇ 操作条件
     1．CS-MAIN浓度：4-6g/L
     2．F离子浓度：400-600ppm
     3．PH：5.5-6.5
     4．温度：20-30℃
     5．封孔时间：1Mins/Mic（最多12Mins）

◇ 滴定方法
     请参考相关的分析方法。