本设备采取的是磁控溅射镀膜技术，它具有油射速率高，基片升温地的特点，可在陶瓷、硅片表面镀制各种金属膜，是镀电阻膜的一种专用设备。

技术指标：
1、 工作室尺寸：Φ600×635mm 卧式

2、 极限真空：≤1.33×10-4帕（清洁空载）
3、 恢复真空时间：从大气抽至6.75×10-3帕≤20min
4、 磁控源尺寸：305*127*13  功率10KW（平面靶）
5、 工件转数：2-8r/min

6、 总功率：20KW

7、 总重量：约0.8吨