高纯氩气主要用途：用于焊接、不锈钢制造、冶炼，还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气，为了提高硅晶体的质量，如何选用较高纯度的氩气，是制作硅晶体的一个议题。通过本装置对氩气的使用，氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时，水分也小于1ppm时，制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm，这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求，赢得客户的满意和市场的需求。由于一般液氩汽化后未经过纯化处理，它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围，但使用氩气的客户确不知道其质量，所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何，只要经过纯化装置的处理后，进入拉晶炉的氩气，纯度始终是恒定的。一般 O2＜0.2ppm,水分＜1ppm，这样稳定的氩气对生产晶体质量是有保证的。 氩气纯化装置是针对需要使用超高纯度氩气的客户而设计的。广泛应用于在金属保护行业、电子、电光源、科研、气体、分析、医学等领域以及光谱仪、气相色谱仪、科学仪器等等已知或未知的宽广领域

装置特点： 

1. 催化剂采用了最先进环保的催化材料。具有吸附深度高，吸收杂质气量大的特点，经催化吸附干燥过滤后使其最终纯度达99.9999%以上。100级的气体出口过滤器使其最终纯气颗粒小于0.1μ，确保气体满足高纯气要求，原位再生功能保证了气体的品质如一，达到了环保节能的最终目的

2. 本装置所有阀门，容器，管路全系不锈钢制作，均采用国内外专业制造企业的名优产品，直接保证了设备工作过程中的高真空无渗透及无故障运行安全可靠性。

3. 精致的控制仪表，电路电器选自高端跨国公司，如西门子，施耐德等。

4. 设备所有连接接头均选自知名企业先进的VCR接头,杜绝渗漏，安全快捷。

5. 人性化的外观设计,使设备外形精巧更美观，操作更方便

一 、设备工作原理 

设备工作设有两组工作组，填装的净化材料属于可再生重复利用材料。原料液氩经汽化器汽化后由设备工作进口进入设备一组工作组，经脱氧剂、分子筛及精密高效过滤器后送出至工作点使用。一组工作组负荷饱和后，切换到另一组工作组工作，保证为使用点连续的提供高纯氩气。同时一组工作组开始再生加热加氢反吹洗（本系统加氢是为了还原脱氧剂，加氢结束后设备自动吹洗并直接放空），为等待下一次切换使用做好准备。装置工作为常温工作，脱氧程度深、碳水含量低，均可达到并高于GB高纯氩气标准。

二、主要技术条件 

1、 处理气量 ≥2-320Nm3/h 

2、工作压力 ＜0.8Mpa 

3、原料氩气纯度 ≥99.999% 

4、纯化后 O2 ≤0.2ppm CO+CO2＜0.3ppm CH4＜0.2 ppm H2O≤1ppm 

关键词：氩气净化机，氩气净化器，高纯氩气净化，高纯氩气净化设备，高纯氩气纯化设备，高纯氩气纯化装置，YAC系列氩气净化设备，全自动氩气纯化设备，大型氩气净化设备，硅材料行业用氩气净化设备，硅材料用除氧、除水氩气纯化装置,气站专用氩气净化设备，气站专用氩气纯化器，气站用高纯氩设备,单晶硅行业用氩气除氧、干燥设备，多晶硅行业用氩气除氧、干燥设备,高纯氩气提纯设备，钨化氩气提纯机,多晶硅氩气过滤器。

高温吸气剂就是一些金属合金。它的表面会和一些杂质如氧，CH4等反应。而且在高温下（300-700度）这些杂质会从表面扩散到材料内部从而保持表面和新的杂质的反应能力。这种技术的优点是可以去甲烷和氮（用于氮气时除外）。一般用来纯化稀有气体（氦氖氩氪氙）的比较多。也有用来纯化氮和氢的。但是用的材料不同。
     晟宇氩气纯化耗材选用2 q- A  S' N; o7 M/ c% J高温金属合金吸气剂，它的表面会和一些杂质如氧，CH4等反应。而且在高温下（300-700度）这些杂质会从表面扩散到材料内部从而保持表面和新的杂质的反应能力，采用新型工艺解决不可再生的困惑。延长了设备耗材的使用年限，做到节能增收的目的

高温催化剂：这个主要是用来把含氧气体中的所有碳氢化合物（含甲烷）以及氢给除掉。一般是用含钯的催化剂加热。气体通过时基本上就是发生低温的燃烧。碳氢化合物和氧变成CO2和H2O。氢和氧变成H2O。所以这个技术实际上不是完全的纯化。只是把某些杂质转换成另外一些杂质。如果不想要CO2和H2O还需要接后续的纯化罐把它们除掉。
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对用户来说，只要不要求氧中除甲烷，尽量不要用这个技术。
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- U# K& k! k3 q% s# }! U! y钯膜/钯管：前面讨论过了。这里不多说。只能用来纯化氢气。
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低温分凝：这个技术用的很少了。一般只在用户非要除去氧中的氮的时候采用。氧中除氮是没有化学方法可以用的。所以只好用物理的办法。具体的技术我没有研究过。