'
本公司代理台湾LED蓝宝石,氧化铝基板等高硬度化合物基板减薄用研磨砂轮,可与现在大陆各主要LED生产商使用的主要机型的原厂相匹敌,可以达到原厂,各别产品超出原厂表现,现在台湾被各主要LED生产商所认可及采用。
可对应的主要设备商:创技(SPEEDFAM),捷斯奥(WEC),凯勒斯(GALAXY),NTS,TECDIA,SHUWA等。

| 晶圆减薄砂轮SF304S 1 - 适用于研磨2"-4"蓝宝石(Sapphire),氮化铝 (AlN)晶片 2- 砂轮免削锐,可用纯水做为切削液 3 - 砂轮外径:304mm 4 P.C.D:180 6-M6 5 - 齿数:36 |

| 晶圆减薄砂轮SF254S 1 - 适用于研磨2"-4"蓝宝石(Sapphire),氮化铝 (AlN)晶片 2- 砂轮免削锐,可用纯水做为切削液 3 - 砂轮外径:254mm 4 P.C.D:180 6-M6 5 - 齿数:24 |

| 晶圆减薄砂轮SF254R-Si 1 - 适用于研磨2"-4"Si-bonding ; GaAs ; GaP ; Ge wafer... 2- 有效降低四元硅粘接LED研磨后翘曲量,提高切劈良率 3 - 研磨后表面粗糙度适中,镀背金不脱落 4 - 砂轮免削锐,可用纯水切削液 5 - 砂轮外径:254mm 6-P.C.D:180 6-M6 |

| 晶圆薄化砂轮W255S
1 - 适用于研磨2"~4" Sapphire , AlN wafer 2 - 砂轮免修整;可用纯水切削液 3 - 砂轮外径:255毫米 4 - P.C.D:125 4-M8 5 - 齿数:26 |

| 晶圆薄化砂轮W175S
1 - 适用于研磨2"~4" Sapphire , AlN wafer 2 - 砂轮免削锐,可用纯水切削液 3 - 砂轮外径:175毫米 4 - P.C.D:105 4-M8 5 - 齿数:22 |

| 晶圆薄化砂轮GN175R
1 - 适用于研磨2" ~ 4" Si-bonding ; GaAs ; GaP ; Ge wafer... 2 - 有效降低四元硅粘接LED研磨后翘曲量,提高切劈良率 3 - 研磨后表面粗糙度适中,镀背金不脱落 4 - 砂轮免削锐,可用纯水切削液 5 - 砂轮外径:175mm 6 - 砂轮内径:76mm |

| 晶圆薄化砂轮西南150 R-AL
1 - 适用于研磨2" ~ 4" Sapphire , AlN wafer 2 - 砂轮锐利度佳,寿命长 3 - 可用纯水切削液 4 - 砂轮外径:150mm 5 - 螺丝孔:M10 |

| 晶圆薄化砂轮SW150S
1 - 适用于研磨2"~4" Sapphire , AlN wafer 2 - 砂轮免削锐,可用纯水切削液 3 - 砂轮外径:150mm 4 - 螺丝孔:M10 5 - 齿数:22 |

| 晶圆薄化砂轮SW150R硅
1 - 适用于研磨2" ~ 4" Si-bonding , GaAs , GaP , Ge wafer 2 - 有效降低四元硅粘接LED研磨后翘曲量,提升切劈良率 3 - 研磨后表面粗糙度适中,镀背金不脱落 4 - 砂轮免削锐,可用纯水切削液 5 - 砂轮外径:150mm 6 - 螺丝孔:M10 |
KEYWORDS: LED晶圆减薄,LED蓝宝石晶圆减薄,薄化,氮化铝基板减薄,超硬材料减薄,精密减薄, LED基板减薄砂轮,蓝宝石减薄砂轮,进口减薄砂轮,
关联产品
CMP RETAINER RING CMP研磨用保持环 CMP制程用消耗品 |
CMP DRESSER CMP DISK CMP CONDITIONER |
CMP SLURRY CMP 研磨液 CMP制程用消耗品 |
CMP PAD CMP研磨垫 CMP制程消耗品 |
相关技术介绍
・半导体IC芯片制造CMP制程介绍
公司地址:大连市金州区金马路120号福佳国际大厦611室 邮编:116000 电话号码:0411-8718-9285 传真号码: 0411-8718-9293
- 友情链接: 爱锐精密科技阿里巴巴首页 半导体技术天地 大连半导体行业协会 英中贸易协会(CBBC)
日本贸易振兴机构(JETRO) SEMI中国
Copyright 2013 AIRY TECHNOLOGY CO., LTD. All Rights Reserved
辽ICP备12013859号'