规格 |
粒度(um) |
PH |
百分比含量 |
酸SiO2 |
50 |
8.0±1.5 |
20% |
碱SiO2 |
80 |
6.0±1.5 |
25% |
产品用途:主要用于金属镜面抛光、硅片、陶瓷、精密仪器、珠宝玉器、化工机械等行业的精密抛光。
产品的特点:
1.高抛光速率,利用大粒径的二氧化硅粒子达到高速抛光的目的。(颗粒10-150 nm)
2.粒度可控,根据不同需要,可生产不同粒度的产品。(10-150 nm)
3.高纯度,有效减小对电子类产品的沾污。
4.高平坦度加工,本品抛光是利用SiO2的粒子,不会对加工件造成物理损伤,达到高平坦化加工
包装及储运:
1、 塑料桶包装,按一般化学品运输,轻装轻卸,防止重压倒置。贮于室温下。保质期一年。
2、 避免阳光直射、防止雨淋。
产品说明:所有产品图片均为本公司实物拍摄!
本公司坚持以质量求生存,以信誉求发展,以实力打造自己的品牌,以高质量低价格开拓和占领市场,多年以来与客户中建立了良好的合作关系,树立了良好的企业形象,赢得了业界的广泛赞誉! 我公司的诚信、实力和产品质量获得业界的认可。欢迎各界朋友莅临参观、指导和业务洽谈。
- 联系人:罗建华先生
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产品说明:所有产品图片均为本公司实物拍摄!买家如果想要更清晰图片可以联系客服索要原图!