1．镀液容易控制，镀层的填平度。    2．镀层不易产生针孔；内应力低，富延展性。 3．电流密度范围宽阔，镀层填平度高至75%，达至光亮效果。  

4．沉积速度特快，在4.5安培/平方分米的电流密度下,每分钟可镀出1微米铜层,电镀时间因而缩短。 　

5. 镀层电阻率低,故非常适合于对镀层物理性能要求高的电机工业。

6．可应用于各种不同类型的基体金属，铁件、锌合金件、塑料件等同样适用。  

7．杂质容忍量高，一般在使用一段长时间后（约800-1000安培小时/升），才需用活性碳粉处理。

备注：

      酸铜810A主光剂单价55元/KG，酸铜810B主光剂单价35元/KG，酸铜810MU开缸剂单价35元/KG。

          此款酸铜添加剂在同行业产品之中，填平效果显著出光快速，优势突出。用量极省，经济好用。目前市面上有许多客户在用此款产品，如果有意，可以免费提供样板！