HDK®气相二氧化硅
HDK®气相二氧化硅是一种有着40多年历史的成熟瓦克产品，其客户遍及世界各地，并取得了极大的成功。 由于我们的综合生产系统带有统计过程控制和高效的反应器动力控制功能，因而我们生产的气相二氧化硅纯度特别高。
我们的憎水性和亲水性HDK®系列与HDK®分散剂为您提供多种不同的解决方案，以满足下述领域中的各种要求： 蓄电池、CMP（化学机械平坦化）、复合材料（合成树脂）、印刷油墨、电气/电子、涂料与涂层、接缝密封胶、动物饲料、绝缘凝胶、胶粘剂、化妆品、食品、天然及合成橡胶、纸张涂层、制药、聚氯乙烯、散装材料、有机硅弹性体、织物浸渍、墨粉和显影剂等。
HDK®可从生产和加工过程的各个阶段对您的体系和配方的性能、稳定性与操作性进行改善。
HDK®表现出令人难忘的性能特征。 然而，除了销售产品，作为您的合作伙伴，我们还为您的特殊应用提供全面而深入的技术支持。 具有丰富知识的瓦克专家以及我们的应用实验室都非常乐意帮助您优化产品和配方。
此外，我们还可以对您的业务流程的每一个环节进行研究，并与您一起开发全新的创新性解决方案与改进措施。 由于我们拥有适合几乎所有瓦克产品的替代性包装与运输系统，所以我们愿参与您的工作流程设计，共同决定哪种系统对您最适合。 如此一来，我们可帮助您实现最高的生产效率。
亲水性HDK®亲水性HDK®是通过挥发性氯硅烷在氢氧焰中水解而制得的。 从化学角度看，这些松散的白色粉末由高纯度的无定形二氧化硅构成。 亲水性二氧化硅可用水润湿，并能在水中分散。
憎水性HDK®憎水性HDK®可以通过亲水性HDK®的化学改性产品与活性硅烷（例如氯硅烷或六甲基二硅胺烷）发生化学反应而制得。 它具有憎水性，而且不能在水中分散。
墨粉用HDK®气相二氧化硅是现代墨粉与显影剂的重要组分。 瓦克为该领域开发、生产并供应专门定制的气相二氧化硅。
该产品系列由高、低两种比表面积（BET）的气相二氧化硅系列构成。 它们经过处理后可通过摩擦带电——带正电荷或负电荷。 这些产品适合作为标准墨粉和化学墨粉配方的组分。
气相法二氧化硅的物理和化学性能：
亲水型 |
WACKER HDK· | V15 | N20 | T40 |
比表面积（BET法） m2/g | 150±20 | 200±20 | 400±40 |
PH值 | 3.8—4.3 | 3.8—4.3 | 3.8—4.3 |
松密度 g/l | Ca. 50 | Ca. 40 | Ca. 40 |
干燥损失 wt% | <1.0 | <1.5 | <1.5 |
不饱和树脂的增稠 mPa.s | 3000—4200 | 6000—7500 | 4000—6000 |
筛余物 wt% | <0.03 | <0.04 | <0.04 |
按要求可获得浓度在12-25%的高纯度， 水悬浮液 | |||
疏水型 |
WACKER HDK· | H15 | H20 | H18 | H2000 |
比表面积（BET法） m2/g | 120±20 | 170±30 | 120±40 | 140±30 |
PH值 | 3.8—4.8 | 3.8—4.3 | ||
松密度 g/l | Ca. 40 | Ca. 40 | Ca. 40 | Ca. 40 |
干燥损失 wt% | <0.6 | <0.6 | <0.6 | <0.6 |
不饱和树脂的增稠 mPa.s | 2600—4400 | 3300—5300 | 7000—9500 | No info |
筛余物 wt% | <0.05 | <0.05 | No info | No info |
碳含量 wt% | Ca.0.8 | Ca. 1.1 | Ca. 4.5 | Ca. 2.8 |
表面改性 | -OSi(CH3)2 | -OSi(CH3)2 | -OSi(CH3)2 | -OSi(CH3)3 |
