离子束溅射用氧化铈靶材 非平衡磁控溅射用氧化铈靶材 反应磁控溅射用氧化铈靶材 冠 高致密高均匀氧化铈靶材 低公差氧化铈靶材 精车表面氧化铈靶材 直径50.8mm氧化铈靶材 厚5mm氧化铈靶材 直径60mm氧化铈靶材 非对称脉冲溅射用氧化铈靶材 中频交流反应溅射用氧化铈靶材 射频溅射用氧化铈靶材 直流溅射用氧化铈靶材 离子镀溅射用氧化铈靶材 多弧氧化铈靶材氧化铈靶材定做 平面氧化铈靶材 圆片圆形氧化铈靶材 旋转氧化铈靶材氧化铈靶材绑定焊接 实验室用氧化铈靶材 进口氧化铈靶材 磁控溅射氧化铈靶材 科研用氧化铈靶材 金属氧化铈靶材
物理性质 颜色：淡黄；密度：7.3g/cm³；熔点：1950℃
技术指标 纯度：99.99%；相对致密度：>99%；切面平整度：3.2Ra
公差：±0.1mm；晶粒度：均匀
材质 冠金利-CeO2
品牌 冠金利-铈
产地 北京市
产品规格 尺寸01：直径<360mm 厚度>1mm （圆片/圆台/圆棒）
尺寸02：长度<300mm 宽度<300mm 厚度>1mm 矩形/片材/台阶状(可拼接）
尺寸03：外直径<360mm 内直径>1mm 壁度>1mm 长度>1mm（管材/圆环/旋转靶材）
尺寸04：根据用户需要进行定制，来样加工，来图加工
最少起订量 1片，量大优惠
供货能力 同批次，同材质，持续可靠供应；100kg/月
交货期 单片材料1周内发货，批量材料15天-20天内发货（工作日）
制作工艺 真空磁悬浮熔炼 ，浇铸成锭，热机械处理和精密机械加工
适用仪器 各类型号磁控溅射设备等
产品用途 工业级镀膜，实验或研究级别用氧化铈，电子，光电，装饰等
产品优点1、质量可靠，价格优惠
2、还原法制备，纯度高，杂质少
3、轧制致密，氧化少，成型可塑
4、相对致密度高，晶粒均匀等轴，一致性高
产品附件 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单
包装方式 空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
运输方式 国内快递承运（顺丰，申通，EMS，德邦）
北京冠金利新材料科技有限公司为您长期供应氧化铈靶材CeO2：高纯金属，高纯靶材，以及靶的相关产品。铝靶Al，银靶Ag，金靶Au，钴靶Co，钼靶Mo，铬靶Cr，铜靶Cu，镍靶Ni，钛靶Ti，锌靶Zn，镁靶Mg，铌靶Nb，锡靶Sn，铅靶Pb，铟靶In，铁靶Fe，锆靶Zr，铂靶Pt，钽靶Ta，锗靶Ge，硅靶Si，铯靶Cs，铷靶Rb，钨靶W，锰靶Mn，铪靶Hf，钆靶Gd，钐靶Sm，镝靶Dy，铈靶Ce，钇靶Y，钒靶V，镧靶La，铼靶Re，钌靶Ru，钯靶Pd，铑靶Rh，铋靶Bi，钛铝Ti-Al，铝硅Al-Si，铝铜Al-Cu，铝钛Al-Ti，银铜Ag-Cu，铝镁Al-Mg，钴铁硼Co-Fe-B，铜铟镓Cu-In-Ga，铁锰Fe-Mn，铟锡In-Sn，钴铁Co-Fe，镍钴Ni-Co，镍铁Ni-Fe，镍铬Ni-Cr，镍锆Ni-Zr，镍铝Ni-Al，镍铜Ni-Cu，镍钒Ni-V，钨钛W-Ti，锌铝Zn-Al，铝钛硼Al-Ti-B，铝钪Al-Sc，钒铝铁V-Al-Fe，铜锡Cu-Sn，锆铝Zr-Al，钒铝V-Al，硼铁B-Fe，铝铬Al-Cr，铝锡AlS等
陶瓷靶材：氮化硅靶Si3N4，氮化铝靶AlN，氮化硼靶BN，氮化铬靶材CrN，氮化锆靶ZrN，氮化钛靶TiN，碲化镉靶CdTe，二硅化钼靶MoSi2，二硫化钼MoS2，二硼化锆靶ZrB2，二硼化钛靶TiO2，二氧化锆靶ZrO2，二氧化硅靶SiO2，二氧化锰MnO2，二氧化铈靶CeO2，二氧化钛靶TiO2，二氧化锡靶SnO2，氟化钡靶BaF2，氟化钙靶CaF2，氟化铝靶AlF3，氟化镁靶MgF2，氟化铈靶CeF2，硫化镉靶CdS，硫化亚铜Cu2S，硫化锌靶ZnS，硼靶B，硼化铪靶HfB2，三氧化二铬靶Cr2O3，三氧化二锰Mn2O3，三氧化钨靶WO3，钛酸钡靶BaTiO3，钛酸镨靶PrTiO3，石墨靶C，碳化锆靶ZrC，碳化铬靶Cr3C2，碳化硅靶SiC，碳化铪靶HfC，碳化硼靶B4C，碳化钛靶TiC，碳化钨靶W2C，五氧化二铌靶Nb2O5，氧化铒靶Er2O3，氧化钴靶CoO，氧化铪靶HfO2，氧化镓靶Ca2O3，氧化钪靶Sc2O3，氧化铝靶Al2O3，氧化镁靶MgO，氧化镍靶NiO，氧化钕靶Nd2O3，氧化钽靶Ta2O5，氧化铁靶Fe2O3，氧化铜靶CuO，氧化锌靶ZnO，氧化钇靶Y2O3，氧化铟靶In2O3，ITO靶（In2O3+SnO2），AZO靶(ZnO+AL203)，LGZO靶，氧化硅铪靶HfO2，氧化铬靶Cr203，氧化铈靶材CeO2
