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XR-3600是引进日本技术,采用德国进口材料研制而成。为单组份UV接触曝光，稀碱显影，抗蚀刻、抗电镀、抗氧化的高档感光显影抗蚀刻油墨。广泛用于电子五金元器件、超薄高精密光电元器件、花辊、不锈钢网的高精密度蚀刻。具有可叠板放置、显像度高，抗蚀刻能力强，侧蚀极微、性能稳定等特点。亦用于制作单面、双面及多层精密电路板。耐酸碱蚀刻液并可耐铜、锡、铅及镍金电镀液，其性能比干膜更优异。
操作流程及技术参数：
基板前处理 酸处理及刷磨与一般前处理相同
涂 布 丝网印刷、喷涂或辊涂方式。厚度：蚀刻8~15um;电镀15~20um
预 干 70~90℃，5-15分钟，冷却后手压无压痕。
曝 光 80-120mj/平方厘米，21级光梯表7-10格(1-5kw紫外线灯、碘镓灯、
汞灯15-40秒)，电镀120-160 mj /平方厘米。
显 影 在0.8~1.2%碳酸钠（Na2CO3）溶液,30±2℃的溶液，40-60
秒。
后 烘 烤 140-170℃，烘烤20-30分钟。
蚀 刻 酸性或碱性蚀刻液。
去 膜5%氢氧化钠（NaOH）溶液,50±5℃,60-120sec．
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