仪器简介:用于各种金属材料中各种化学元素的成分分析。用于原材料检验,冶炼生产过程成分控制,成品元素成分定值及其它特殊应用。最多可配置4个光学室,96个分析通道,可分析氮、氢、氧等气体元素。主要特点:
1.多光学系统配置,最多可以设置3个光学系统。
2.所有元素采用一级谱线,灵敏度高,光谱干扰小。
3.最新3000型数字化光源。精度和检出限明显改善。无须辅助电极,免维护。
4.原厂校准工作曲线,用户无须标样制作曲线,随机提供德国SUS校准标样。
5.SAFT痕量元素分析技术,使分析灵敏度提高一个数量级,可以分析ppm级元素技术参数:
1.光栅刻线3600条/mm光栅,色散率0.37 nm/mm (1级光谱)
2.波长范围120-800nm
3.光栅焦距750mm
4.最多可设置96个分析通道
5.环境适应性强:无需防震、恒温;工作温度范围:10-40℃。
SPECTRO公司推出的全新SPECTROLAB 新型金属分析仪大大提高了分析性能,增强了灵活性,操作更为简便。根据用户要户要求量身定制,十种标准基体:铁、铝、铜、镍、钴、镁、钛、锡、铅和锌,可以与五种贵金属基体:金、银、铂、钯、钌组合配置。 SPECTROLAB光学系统集合了传统光电管光学系统和CCD全谱光学系统的所有优点。主光学系统内部包括两个独立的光谱模块---光电管光学部分和CCD光学系统,信号通过高性能数据读出系统来处理。
配备最新现代化的光谱技术和高质量的组成部件,SPECTROLAB适用于各种分析要求,可广泛应用于金属冶炼、金属加工与回收等行业。
UV-PLUS专利光学系统:
SPECTROLAB的光学系统集合了两种检测器的优势:光电倍增管和CCD检测器。采用了优化的帕邢——龙格架构,专利光学系统的机械结构异常坚固,同时减少了内部空间体积。内部恒温、恒压确保光学系统不受外界环境变化和影响。UV-PLUS专利技术用于保障远紫外光谱范围的测量。密封光室内部在仪器出厂前充入高纯氩气,保证远紫外光谱的透过率。光室内的氩气由分子薄膜泵驱动循环至净化装置,以保证内部氩气的高纯度。
UV-PLUS专利光学系统是纯净的,同时具有杰出的长期稳定性。专利系统在120-180nm波段透光效率极佳,运行成本很低。
无与伦比的光学系统设计与UV-PLUS概念相结合,M11能够同时以高达9pm的光谱分辨率记录120-800nm波段的全部一级光谱图。这一核心技术奠定了SPECTROLAB杰出分析性能的重要基础。
等离子发生器光源:
最新一代等离子发生器是至今最坚固的激发光源。超稳定的能量释放在氩气环境中激发样品。全数字信号发生配合全数字能量输出,确保激发区等离子体能量超高分辨率和高保真输出。 在标准分析应用中18秒内可以获得分析数据,提高了样品输出量和过程控制效率。
火花台:
M11的火花台直接将激发光导入光学系统。火花台内部体积进一步缩小,优化氩气流
向设计使得氩气消耗更低,同时有效移除残留粉尘。尾气经两级过滤系统排出。火花台工作维护量极低。极品压杆可以左右移动,接驳安全电路。可以快速更换样品。
适用分析大尺寸异型样品。特殊设计的样品夹可用于分析棒材、线材和薄片。小样品专用分析程序提高了 分析精度和准确性。
分析测试:
M11的精致设计使用日常维护和校工作量降到最低,仪器操作变得非常简单。日常分析按一个键就可以完成。配合自动制样设备,可以实现全自动大样品量输出。集成于Spark Analyzer Vision 软件包的硬件诊断系统,实时监控和存档仪器的运行状态。对于仪器参数设置,数据管理,联网传输,打印和材料牌号判定等功能,软件设计了简单直观,易懂的操作界面。SQL数据库格式是数据管理软件的基础。
基于用户的分析需求,仪器可以定制成十种标准基体的任意组合。
CCD光学系统可以自由选择120-800nm范围内的任意谱线用于分析线或参比线。光电管光学系统最多可设置108个高性能光电倍增管。每个光电管通道都有是一个微积分器,具有TRS(时间分解光谱技术)分析痕量元素和SSE(单火花评估技术)分析元素相态。事实上,所有分析要求都可以在M11中最优无折衷地实现。
配备最现代光谱技术和高质量的元器件,SPECTROLABM11设计应用于解决各种分析要求。凭借其杰出的性能表现和灵活性,适用于过程控制,质量监控,材料牌号判定,材料研究和开发,以及金属冶炼,加工和回收工业中的各种分析应用。