宝鸡宏晟拓金属供应W1磨光钨板 镀膜钨靶

密度≥19.3g/cm³   熔点：3422度   轧制碱洗面   磨光面  机加面   高密度   产地宝鸡

用途：真空行业，稀土永磁，晶体生长，核工业，激光行业，粉末烧结行业等

磁控溅射镀膜设备是在直流溅射阴极靶中增加了磁场，利用磁场的洛伦兹力束缚和延长电子在电场中的运动轨迹，增加电子与气体原子的碰撞机会，导致气体原子的离化率增加，使得轰击靶材的高能离子增多和轰击被镀基片的高能电子的减少。平面磁控溅射的优点：1.靶功率密度可到 12W／cm2；2.靶电压可到600V；3.气体压强可到到0.5Pa。平面磁控溅射的缺点：靶材在跑道区形成溅射沟道，整个靶面刻蚀不均匀，靶材利用率只有20％～30％。