PHL膜厚测试仪
PHL椭偏仪
应力双折射仪，能够快速、精准测量双折射相位差及其空间分布和方向。广泛应用于玻璃、晶体、聚合物薄膜、镜片、晶片等质量分析和控制领域。
日本Photonic-lattice公司成立于1996年，以日本东北大学的光子晶体的研究技术为核心，成立的合资公司，尤其是其光子晶体制造技术领先世界，并由此开发出的测量仪器。
根据应用不同，我们特别开发出5款不同的的膜厚测试仪/椭偏仪，每一款产品各具不同的特点。
PHL紧凑型桌面式椭偏仪 SE-101
型号 | SE-101 |
重复性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
测量速度 | 0.05秒/测量点 |
光源 | 636nm 半导体激光器 |
测量点 | 1mm |
入射角 | 70度 |
测量尺寸 | 4英寸, |
仪器尺寸和重量 | 250x175x218.3mm/4kg |
数据接口 | 千兆以太网（摄像机信号），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
软件 | SE-View |
PHL凑型桌面式椭偏仪 SE-102
型号 | SE-102 |
重复性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
测量速度 | 0.05秒/测量点 |
光源 | 636nm 半导体激光器 |
测量点 | 1mm |
入射角 | 70度 |
测量尺寸 | 4英寸,1轴自动，2轴手动 |
仪器尺寸和重量 | 300x235x218.3mm/4kg |
数据接口 | 千兆以太网（摄像机信号），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
软件 | SE-View |
PHL快速映射椭偏仪 ME-110
型号 | ME-110 |
重复性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
测量速度 | 每分钟1000个点以上 |
光源 | 636nm 半导体激光器 |
测量点 | 0.5mm |
入射角 | 70度 |
测量尺寸 | 6英寸 |
仪器尺寸和重量 | 650x650x1740mm/120kg |
数据接口 | 千兆以太网（摄像机信号），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
软件 | SE-View |
型号 | ME-110 |
重复性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
测量速度 | 每分钟1000个点以上 |
光源 | 636nm 半导体激光器 |
测量点 | 0.0055-0.5mm |
入射角 | 70度 |
测量尺寸 | 6英寸 |
仪器尺寸和重量 | 650x650x1740mm/120kg |
数据接口 | 千兆以太网（摄像机信号），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
软件 | SE-View |
允许厚度分布的测量，例如，透明电极膜和取向膜与基底玻璃的透明基板
型号 | ME-110-T |
重复性 | 厚度0.1nm,折射率0.001 |
测量速度 | 每分钟1000个点以上 |
光源 | 636nm 半导体激光器 |
测量点 | 0.5mm |
入射角 | 70度 |
测量尺寸 | 6英寸 |
仪器尺寸和重量 | 650x650x1740mm/120kg |
数据接口 | 千兆以太网（摄像机信号），RS-232C |
功率 | AC100-240V（50/60Hz） |
软件 | SE-View |
高速，高解析度的表面分布测量
