硅晶片清洗剂

    适用于晶体硅太阳能硅片线切割后对砂浆、硅粉及金属 离子的清洗，是一种非常优秀的单组份硅片清洗剂。 适用范围： 清洗有机杂质、无机杂质、金属离子、硅粉粉尘等，适用于各类硅晶片的清洗。

特性： 外观：无色透明液体  PH值：9.0～11

使用方法：

（1） 根据清洗对象脏污程度,用软、硬水稀释为1%～2%的溶液使用。

（2） 常温使用，配合超声波清洗。在清洗硅晶片时，加热至45℃～50℃，效果更佳。

（3） 必要时可适当延长清洗时间，提高使用浓度。

注意事项：

（1） 长期接触请戴胶手套。

（2） 若不慎溅入眼中，用清水持续冲干净。