众诚达公司拥有自己开发的旋转靶材帮定技术，此种技术不仅靶材帮定使用的铟料较少，而且靶材粘结强度高，而且靶材的导电与散热性能好，能有效解决靶材使用过程中的裂靶与脱靶问题。使用这种帮定技术生产的靶材，能够满足客户大功率溅射的要求，我司的AZO靶材溅射功率>15kw/m.我司先进的帮定技术，能用效降低铟的使用量，使得降低靶材生产成本成为可能。

    深圳市众诚达应用材料科技有限公司专业生产磁控溅射靶材。磁控溅射靶材的利用率可成为磁控溅射源的工程设计和生产工艺成本核算的一个参数。截止2012年，还没有见到对磁控溅射靶材利用率专门或系统研究的报道，而从理论上对磁控溅射靶材利用率近似计算的探讨具有实际意义。对于静态直冷矩形平面靶，即靶材与磁体之间无相对运动且靶材直接与冷却水接触的靶， 靶材利用率( 最大值) 数据多在20%~30%左右(间冷靶相对要高一些，但其被刻蚀过程与直冷靶相同，不作专门讨论)，且多为估计值。为了提高靶材利用率，研究出来了不同形式的动态靶，其中以旋转磁场圆柱靶最著名且在工业上被广泛应用，据称这种靶材的利用率最高可超过70%，但缺少足够数据或理论证明。常见的磁控溅射靶材从几何形状上看有三种类型：矩形平面、圆形平面和圆柱管。