我司生产的精细研磨液是将精选的微米、亚微米级磨料分散在水、油等介质中而成，具有良好的研磨抛光性能，主要应用于光通信、硅片、光学晶体、液晶面板、宝石、金相分析等领域。根据磨料种类产品主要分为金刚石研磨液、碳化硅研磨液、氧化铝研磨液、氧化铈研磨液、二氧化硅抛光液（CMP抛光液）。
产品特性

◆   精选磨料，颗粒形貌规整、粒度分布集中，具有良好的研磨抛光效果；

◆   磨料分散性和悬浮性良好，使用方便，不会造成工件表面的划伤；

◆   易清洗，研磨速率稳定，抛光一致性好。

产品型号

型号	磨料	粒径/μm	浓度/%	介质
PS-SC3	碳化硅	3	50	水
PS-AO2	氧化铝	2	50	水
PS-AO1		1	50	水
PS-CO1	氧化铈	1	50	水
PS-CO0.5		0.5	50	水

应用领域

◆   光通讯行业中陶瓷插芯、塑料MT插芯、光纤阵列的研磨抛光；

◆   光学玻璃、晶体、LCD基板的精密抛光和修复；

◆   硅片、化合物半导体硅片、LED蓝宝石衬底的抛光。

包装及储存

1.      采用高密度聚乙烯瓶包装，主要包装是250ml、500ml；

 贮存时应避免曝晒，贮存温度为0-40℃，低于0℃可能会结块失效。