【深圳市中正冶金科技有限公司】是一家集研究开发、生产、加工及销售于一体靶材生产商；通过真空熔炼、无污染熔炼、、真空喷涂，真空压力铸造、锻造、真空轧制变形及高真空高温蒸馏提纯等综合工艺，生产的产品包括单一金属靶材、合金靶材（二元合金、三元合金、四元合金及多元合金等）、高纯金属（高纯Fe、高纯Ti、高纯Al、高纯Cu、高纯Sn、高纯Ag等）、陶瓷靶材、各种材质的旋转靶，平面靶，多弧靶，可根据客户的需要定制不同比例的合金以及非金属，氧化物等靶材，我司才提供靶材的金属化以及绑定服务。

Ti, Zr, Ta, Nb, Mo, W, Ni, Cr, Al, Zn, Si, Cu,ITO,AZO.TZO,WC,Nb2O5,TiO2, SiO2 ，GZO,Ag，Ta，Mg targets

1) Ti/Al 合金靶材 (67:33,50:50at%)

2) W/Ti 合金靶材 (90:10wt%), 

3) Ni/V 合金靶材 (93:7,wt%)

4) Ni/Cr 合金靶材 (80:20, 70:30,wt%), 

5) Al/Cr 合金靶材 (70:30,50:50at%)

6) Nb/Zr 合金靶材 (97:3,90:10wt%）

7) Si/Al 合金靶材 (90:10,95:5,98:2,70:30,wt%)

8) Zn/Al 合金靶材

9)高纯铬靶 (99.95%, 99.995%)

10)Al/Cr 合金靶材 (70:30, 50:50，67:33，at%)

11) Ni/Cu合金靶材 (70:30,80:20,wt%)

12)Al/Nd 合金靶材 (98:2wt%)

13)Mo/Nb 合金靶材 (90:10,wt%)

14)TiAlSi 合金靶材 (Ti/Al/Si=30/60/10, 33/67, 40/50/10 ,wt% and at%)

15)CrAlSi 合金靶材 (Cr/Al/Si=30/60/10 ,wt% and at%)

*化学成分：98wt.% ZnO, 2wt.%Al2O3或按用户需要提供；

*纯度：99.9%或99.99%；

*相对密度：≥99.5%；

实测密度≥5.60g/cm3

*靶材电阻率：5×10—4Ω?cm (表面电阻由于机加工等原因会明显高于此值)；

*膜电阻率：采用射频磁控溅射，基片加热温度220℃，在最佳工艺条件下：2.17×10—4Ω?cm；基片加热温度450℃，在最佳工艺条件下：9.06×10—5Ω?cm

*目前能提供的最大尺寸：400mm×200mm×9mm。