EDI超纯水设备适用于集成电路芯片、单晶硅、显像管、液晶显示器、计算机硬盘、线路板等工艺所需的纯水和超纯水制备。在严格执行ISO-9001国际质量体系标准的前提下，采用世界上最先进的反渗透膜元件。压力容器和高压泵、配以合理而又高效的前处理设备及后处理设备，使产品出水符合各类工业生产标准的超纯水。控制系统选用PLC程序控制，可实现自动起停、加药及冲洗，自动监测各种运行参数，并可实现运行参数的储存及打印广泛适用于： 半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路LCD、EL、PDP、TFT、玻壳、显像管 超纯材料和超纯化学试剂光导纤维、光盘等。

二、EDI超纯水设备典型工艺流程

1.预处理系统－反渗透系统－中间水箱－纯水泵－粗混合床－精混合床－紫外线杀菌器－精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(传统工艺)

2.预处理系统－反渗透系统－中间水箱－粗混合床－精混合床－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－精密过滤器－用水对象 （≥18MΩ.CM）(传统工艺)

3.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯化水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－抛光混床－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥18MΩ.CM）(最新工艺)

4.预处理－一级反渗透－加药机（PH调节）－中间水箱－第二级反渗透（正电荷反渗膜）－纯水箱－纯水泵－EDI装置－紫外线杀菌器－精密过滤器（0.2或0.5μm）－用水对象（≥17MΩ.CM）(最新工艺)

5.预处理－反渗透－中间水箱－水泵－EDI装置－纯水箱－纯水泵－紫外线杀菌器－0.2或0.5μm精密过滤器－用水对象（≥15MΩ.CM）(最新工艺)

三、EDI超纯水设备的应用

●工业生产用水，如单晶硅超纯水设备、半导体纯水处理设备、集成电路块用水设备、IC芯片封装用水设备、显象管用水设备、玻壳超纯水处理

●LCD液晶清洗用水设备、光学水处理，光学玻璃清洗用水设备、光电超纯水设备

●热电厂用水、冶金工业用水、化工纯水设备、轻工工程用水、汽车制造清洗用水

●制药纯化水、医疗卫生等制造工业用纯水。

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