三碘化锑 (SbI3) 1,工艺:非湿法工艺,不含任何结晶水. CVD工艺:锑与碘化氢气体化学气相沉积:2Sb+ 6HI = 2SbI3 + 3H2; 2,检验: ICP-MS (99.99%纯度:所有的杂质元素低于100ppm); XRD:(主峰完全对称); SEM : ( 扫描电镜); 3,服务:提供MSDS及实用的防护措施(当客户不小心吸入时,我们会在第一时间内提供您最行之有效的解决方案)本品具有腐蚀性和毒性:对眼睛、粘膜、皮肤和上呼吸道有强烈刺激作用 );提供材料的应用解决方案;提供免费样品; 4,物理特性: 红色结晶体,高温时挥发,在水中分解生成碘化锑沉淀 ;分子量:502.16 蒸汽压: 0.13kPa(163.6℃), 熔 点: 170℃ 沸点:401℃ 溶解性:溶于醇、盐酸; 5,用途:半导体掺杂-Doping ; 6,同类产品介绍:碘化铅(PbI2); 碘化银(AgI); 碘化钠(NaI);碘化亚铜(CuI2); 7,纯度:99.99%; 8,包装:瓶装:1Kg/瓶,外加铝复合薄膜真空包装; 9,交期:5-10天.
联系人:冉松林
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22年来,四川鑫龙碲业一直专注于高纯金属,半导体化合物的生产(用于光学玻璃)。公司位于生产基地位于双流西南航空港经济开发区腾飞三路485号。主要生产高纯金属,半导体化合物:
4N - 7N 高纯碲(Te),镉(Cd),硫(S),铟(In),硒(Se),镓(Ga),锑(Sb),锡(Sn),铅(Pb),锗(Ge),铜(Cu),锌(Zn)等高纯单质;
4N -7N 碲系,硫系,硒系,化合物及铜铟镓硒(CIGS)材料和靶材。
碲化镉CdTe, 碲化铅PbTe, 碲化铜CuTe,碲化锗GeTe,
碲化锌ZnTe,三碲化二铋Bi2Te3,二氧化碲TeO2.
硫化镉CdS,硫化铅PbS,三硫化二镓Ga2S3,硫化锗GeS,硫化锌ZnS,
硫化锡SnS,三硫化二铟In2S3.
硒化镉CdSe,三硒化二镓Ga2Se3,硒化铜CuSe,三硒化二铟In2Se3,
硒化铅PbSe,硒化锗GeSe,硒化锌ZnSe,硒化铋Bi2Se3.
铜铟镓硒(CIGS)材料.
靶材:碲化镉靶,硫化镉靶,氧化锌靶,氧化锌铝靶,铜铟镓硒靶,三硒化二铟靶,硒化铜靶材。。。
公司现有的工艺有:
1,电解装置4套:回收电解铜,电解铅锌矿的阳极泥;高纯铟的电解,特别是除去里面的杂质锡。
2, 真空蒸馏装置12套:根据杂质的饱和蒸气压的不同,采用真空蒸馏的方法将其去除。
3,区域熔炼炉10套。
4,单间提拉炉12套。
5,CVD 化学气相沉积设备3套。
6,PVD装置。
7,真空熔炼设备。
8,THM 移动式加热设备。
公司现有的检测设备:
1,ICP-MS;ICP-OES (适用范围:检测<99.999% 纯度的产品)
2,XRD (适用范围:化合物的相图)
3,激光粒度分析仪(适用范围:粉末粒径)
4,对于99.9999%以上的产品,提供GDMS 外检指标。
主营产品:碲;硒;二氧化碲;碲化镉;硒化镉