化学符号：Al 

规    格：Φ50.8*5、Φ76.2*5其他规格可根据客户需求定做！

纯     度：3N、4N、5N、6N
外    观：银白色
原 子 量：26.98154 
蒸发温度：1220℃                                 
密    度：2.7g/cm3 
熔    点：660℃
沸    点：2467℃ 
汽化温度：1082℃
电 阻 率/μΩ•cm:2.66 
电阻温度系数/℃-1:4.20×10-3
溶 解 于：氢氧化钠，碱类，稀硝酸 
蒸发方式：钨丝或钼舟
蒸发源材料（丝、片）:W
坩    埚:BN、TiC/C、TiB2-BN 
性    能：铝膜从紫外区到红外区具有平坦而且很高的反射率，铝膜对基地的附着力比较强，由于铝膜表面总是存在着一层透明的Al2O3薄膜的保护，所以铝膜的机械强度和化学稳定性都比较好。通常真 空蒸发制备的铝膜呈银灰色，但有时也呈黑色。蒸发源为电子枪，基地为氧化硅薄膜（100nm厚），蒸镀铝料的纯度为99.999%。合金及相湿、钨多股绞合较好；加工性能好，可加工成任意形状；
 
应   用：保护膜，反射膜，增透膜
用   途：超纯铝用于制造光电子存储媒体；作为集成电路的配线；
靶材形状：板材，圆片，矩形，方形，圆环，圆管，台阶圆片，台阶矩形，其他规格根据客户要求定做

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