基本参数:

品牌：Alpha Plasma

用途：半导体/EMC产品、基板表面污染物清洗

型号：AL-76

详细说明：

     英展有限公司代理德国微波等离子清洗机设备， Alpha Plasma 研发和生产世界高质量的等离子系统，适用于半导体和复合材料工业的表面活化，清化和镀膜工艺。

清洗EMC产品微波等离子vs 射频 三大优势
微波（Alpha Microwave）	射频（RF）
可清洗尺寸75*244mm的EMC产品，清洗很干净	无法清洗，清洗不干净
针对EMC小杯子材料，能够完全清洗到底部，无损伤	清洗EMC产品无优势，杯子小，射频清洗不到底部
腔体无污染，无需清洗腔体	由于再沉积导致基板或者腔体交叉污染，需要频繁清洗

 微波等离子清洗机 AL76 的特点：  

         微波等离子清洗机 AL76 紧凑型

        提升引线键合品质 提升塑封成形品质

        提升装片品质

        提升倒装芯片底部填充品质

        可满足360全芯片封装

 技术规范:

工作腔体: 铝

容积 :76 公升

腔体尺寸 :宽 400 mm X 长 490 mm X 高 400 mm

腔体的门 :抽屉型，具有观察口

微波功率 :2,45 GHz,可调范围 50 至 1200 Watts

气体供应 :3 个标准型的数字气体流量控制器

真空规格 :Baratron, 1 - 1000 Pa

真空系统 :DN 63 ISO-K

真空阀门 :电-气 节流阀

系统控制: PC, Windows, RS 232, USB, 以太网 (也适用于远程控制) 10,4” 显示器,触摸屏, 图形化的用户界面软件 Windows Office 可兼容:

现状和错误信息,可存储工艺数据和错误信息

工艺数据的输出

工艺参数可进行图形监控

自动和手动的操作模式

可选项真空泵 复合型真空泵,吸取能力 250 m3/h气体管道 额外的数字气体控制 (增加到4个) 可旋转的工作台 铝,350 mm, 速度可调节 ECR 设施 铝,

带有永久磁性的机架装置 设施 3/N/PE AC 50 Hz 400/240 V 16 A

尺寸 宽 1050 mm X 长 800 mm X 高 2020 mm (含指示灯)

重量 95 kg 不含泵 ; 260 kg 含泵

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