一、实验目的

1. 学会使用石英管式微波等离子体装置。
2. 初步掌握现代高精度低临界尺寸电子元件的制备方法及原理：等离子体刻蚀加工工艺，认识等离子体刻蚀中的各向同性和各向异性现象，了解等离子体参数对刻蚀加工的影响。
3. 学会应用等离子体法“干刻”工艺，根据不同要求，设计适合的刻蚀工艺条件。突出其刻蚀速率高、均匀性和选择性好以及环保节能等优点。
4. 利用高倍光学读数显微境观察等离子体刻蚀加工前后样品的外观形貌的变化，测算样品的加工尺寸及等离子体的刻蚀加工速率。联系人 13362107019  QQ 2837552214  金小姐