水质：电阻率>15MΩ.cm
用途:半导体、集成电路芯片及封装、液晶显示、高精度线路板、光电器件产品、单晶硅、多晶硅清洗需用大量的纯水、高纯水、超纯水清洗半成品、成品。
 根据行业的不同要求，制取纯水、超纯水工艺大致分为以下四种：

在设备设计上，采用成熟、可靠、先进、自动化程度高的两级反渗透＋EDI水处理工艺，确保处理后的超纯水水质符合要求，水利用率高，运行可靠，经济合理。关键设备及材料均采用国际主流先进可靠产品，采用PLC＋触摸屏控制，全套系统自动化程度高，系统稳定性高。大大节省人力成本和维护成本。使设备与其它同类产品相比较，具有更高的性价比和设备可靠性。

超纯水处理系统、超纯水处理设备的特点：
    超纯水处理系统、超纯水处理设备应用在反渗透系统之后，取代传统的混床离子交换技术生产稳定的超纯水。EDI技术与混合离子交换技术相比有如下优点：
   1、无需酸碱再生, 不会因再生而停机， 水质稳定，无污水排放： 在混床中树脂需要用化学药品酸碱再生， 且需要安全储存酸碱的车间， 再生时有大量有害废水和废弃物需处理，增加了环保和安全方面的工作困难。 而EDI则消除了这些有害物质的处理和繁重的工作。保护了环境。
   2、运行费用低， 连续、简单的操作， 容易实现全自动控制：在混床中由于每次再生和水质量的变化，使操作过程变得复杂，而EDI的产水过程是稳定的连续的，产水水质是恒定的，没有复杂的操作程序，操作大大简便化。
   3、厂房面积小，降低了安装的要求：EDI系统与相当处理水量的混床相比，有较不的体积，它采用积木式结构，可依据场地的高度和窨灵活地构造。模块化的设计，使EDI在生产工作时能方便维护。

以替代传统的离子交换装置，生产出高达18M-CM的超纯水 。

 超纯水设备应用领域： 　　

电解电容器生产铝箔及工作件的清洗；　　

电子管生产、显像管和阴极射线管生产配料用纯水； 　　

黑白显像管荧光屏生产、玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水；　　

生产液晶显示器的屏面需用纯水清洗和用纯水配液； 　　

晶体管生产中纯水主要用于清洗硅片；　　

集成电路生产中高纯水清洗硅片； 　

半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路用纯水； 　　

半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗；

高品质显像管、萤光粉生产；　　　

汽车、家电表面抛光处理。