操作程序编辑五：

a. 左下旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。b. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，低压阀推入。c. 左下旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。d. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到6.7Pa时，开高压阀。旋钮“1”旋转至指向2区段测量位置。e. 当低压真空表“2”内指针顺时针移动到指向0.1Pa时，开规管灯丝。f. 由?开始重复操作至? 。26. PVDF薄膜蒸镀完铝层后，按顺序关闭规管灯丝、高压阀、机械泵、扩散泵。把低压阀拉出。钟罩充气，充气完毕后升钟罩。取出工件，做好钟罩内清理工作。

十一、 真空镀膜设备主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜设备的操作参照该设备说明书和真空镀膜机上各旋钮下的标注说明以及仪表盘指针显示。大体情况如下:

    1.检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在'关'位置。

    2.打开总电源开关，真空镀膜设备送电。

    3.低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。

    4.安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。

    5.落下钟罩。

    6.启动真空镀膜设备抽真空机械泵。

    7.开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。

    8.当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。这时左旋钮“1”旋转至指向1区段测量位置。

    9.真空镀膜设备开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。

    10.低压阀拉出。重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀（阀杆顺时针旋转）。

名称：高尔夫球专用镀膜机需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。。

   FOXIN-IP磁控离子溅射镀膜机是工业化生产理想设备。其最大特点是能对各种金属及非金属进行表面镀膜。

   其原理是在真空状态下，阴阳极间产生辉光放电，极间气体分子被离子化而产生带电电荷，其中正离子受阴极之负电位加速运动而撞击阴极上之靶材，将其原子等粒子溅出，此溅出之原子则沉积于阳极之基板上而形成薄膜，此物理现象即称溅镀。