真空镀膜设备磁控溅射法又叫高速低温溅射法, 是一种十分有效的薄膜沉积方法, 与蒸发法相比, 具有镀膜层与基材的结合力强, 镀膜层致密、均匀, 成份容易控制等优点。真空镀膜机溅射是一个在离子与物质表面原子碰撞过程中发生能量与动量转移、最终将物质表面原子激发出来的复杂过程。

多弧离子镀膜机是当前蒸镀复合膜最具代表性的产品，其在高真空条件下通过高温将铝线熔化蒸发,铝蒸气沉淀集聚在塑料薄膜表面形成一层厚约35～40nm的阻隔层,作为基材的塑料薄膜可以是PE、PP、PET、PA、PVC等。真空镀铝膜具有优良的阻隔性能,在不要求透明包装的情况下,真空镀铝膜是极佳的选择,而且镀铝膜的保香性好,具有金属光泽,装饰美观,但因为受到铝金属的延展性与镀铝技术的限制，镀铝层极易在受到曲揉、揉搓之后产生针孔或裂痕，从而影响到真空镀铝包装的阻氧性能与阻湿性能。

离子镀膜特点主要有：附着力强，膜层不易脱落；绕镀性好，改善了表面的覆盖度；镀层质量好；沉积速率高，成膜速度快，可镀制30um的厚膜；镀膜所适用的基体材料与膜材范围广泛。适用于在金属或非金属表面上镀制金属、化合物、非金属材料的膜层。如在钢铁、有色金属、石英、陶瓷、塑料等各种材料的表面镀膜。