锗是一种用途很广的红外材料，通常用在2 至12 微米谱段的成像系统和仪表中。它可以充当透镜、窗口和输出耦合镜的基底，用在低功率的连续和脉冲 TEA CO2 激光器中。拥有最低吸收率的锗光学元件仅限于在 50 至 100瓦的运行功率下工作，在更高的功率下将发生热透镜和热失控效应。如果能使光学元件得到合理散热，并仔细清洁污染的光学元件表面，这些问题的危害可减到最小程度。

    锗不具有吸湿性，而且无毒，导热性很好，拥有优秀的表面硬度和良好的强度。贰陆公司对于锗在10.6µm对激光的吸收加以严格监控来确保不会出现热失控和光学元件碎裂现象。

    锗在激光应用领域中有一个理想的用途就是制作具有内置功率计的 CO2激光器中> 99%反射率 的尾镜。这种反射镜的一面是高反射、低吸收的介质涂层，另一面则是增透涂层。激光器利用高反射率的一面产生激光，从其反面泄露的功率已经足以使功率计完成它的监控工作。