名 称:氧化镁 | 熔 点:2800℃ | |
符 号:MgO | 沸 点:3600℃ | |
原子量:40.30 | 密 度:3.58(25℃)g/cm3 | |
纯 度:4N | CAS:1309-48-4 | |
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产品规格 | 状态 | 纯度 | 尺寸 | | | | | |
| 靶材 | 4N | 根据要求定制 | | | | | |
| 粉末 | 4N | 300目 | | | | | |
| 颗粒 | 4N | 1-3mm | | | | | |
| 掺杂靶 | 4N | 掺杂氧化锌、氟化镁 | | | | | |
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产品优点 | 1,不纯物元素含量极低 2,导电性能好,产品致密度好 3,制备一般有化学精炼法,电解精炼法,萃取精炼法等 |
产品用途 | 磁控溅射镀膜材料等 |
产品附件 | 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票 |
产品包装 | 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 |
制作工艺 | 化学精炼法,电解精炼法,萃取精炼法等 |
适用仪器 | 各类型号磁控溅射设备 |
交货期 | 单片材料1周内发货,批量材料7—10个工作日内发货 |
产品运输 | 国内快递承运(顺丰,韵达等) |
起订量 | 靶材一片起订,粉末颗粒100g起订 |
官方网站 | www.ynmat.com |
1. 金属靶材:
镍靶,钛靶,锌靶,铬靶,镁靶,铌靶,锡靶,铝靶,铟靶,铁靶,锆靶,硅靶,铜靶,钽靶,锗靶,银靶,钴靶,金靶,钆靶,镧靶,钇靶,铈靶,铪靶,钼靶,铁镍靶,钨靶,不锈钢靶,锆铝靶,镍铁靶,钛铝靶,铁钴靶,镍铬靶,铜铟镓靶,铝硅靶,锌铝靶等溅射靶材。
2. 陶瓷靶材
ITO靶、AZO靶,IGZO靶,氧化镁靶、氧化钇靶,氧化铁靶,氧化铁靶、氧化镍靶,氧化铬靶、氧化锌靶、硫化锌靶、硫化镉靶,硫化钼靶,二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化铈靶、二氧化锆靶、五氧化二铌靶、二氧化钛靶、二硫化钼靶,二氧化铪靶,二硼化钛靶,二硼化锆靶,三氧化钨靶,三氧化二铝靶,五氧化二钽靶、氟化镁靶、氟化钇靶、硒化锌靶、氮化铝靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化钛靶,碳化硅靶,铌酸锂靶、钛酸镨靶、钛酸钡靶、钛酸镧靶等陶瓷溅射靶材.
3.合金靶材
合金靶材:钛铝Ti-Al、铝硅Al-Si、铝铜Al-Cu、铝钛Al-Ti、银铜Ag-Cu、铝镁Al-Mg、钴铁硼Co-Fe-B、铜铟镓Cu-In-Ga、铁锰Fe-Mn、铟锡In-Sn、钴铁Co-Fe、镍钴Ni-Co、镍铁Ni-Fe、镍铬Ni-Cr、镍锆Ni-Zr、镍铝Ni-Al、镍铜Ni-Cu、镍钒Ni-V、钨钛W-Ti、锌铝Zn-Al、铝钛硼Al-Ti-B、铝钪Al-Sc、钒铝 V-Al 、铁V-Al-Fe、铜锡Cu-Sn、锆铝Zr-Al、钒铝V-Al、硼铁B-Fe等。 |
1.磁控溅射靶材(高纯单质金属靶材,高纯合金靶材,陶瓷靶材,陶瓷复合靶材,稀土靶材,贵金属靶材) 2.真空镀膜料(高纯金属膜料,高纯化合物膜料,贵金属膜料) 3.稀土金属(蒸馏稀土金属,还原稀土金属) 4.实验耗材(钨舟钼舟、钨丝篮、钨绞丝、加热子、石墨坩埚、氮化硼坩埚) 5.单晶硅片(N型硅片、P型硅片、本征硅片)可重掺、可抛光 |
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