聚氨酯抛光皮是一种特殊硬质聚乙烯树脂制造的发泡体,具有迅速抛光的作用及卓越的耐磨性,广泛应用于精密光学玻璃,眼镜玻璃,液晶显示玻璃基片,石英玻璃,半导体等材料抛光。伟硕抛光皮|抛光垫主要表现如下特点:
含有氧化铈的抛光皮——主要表现为提高抛光效率;
含有氧化锆的抛光皮——主要表现为提高光洁度;
不含填充剂的抛光皮——主要表现为抛光过程中的光圈稳定。
主要技术指标:
填充物(%):22%ZrO2 延伸率(%):55% 密度(mm):0.47±0.02
邵氏硬度(A):50~80±2 抗拉强度(Kgf/cm3): 36
撕裂强度(Kgf/cm3): 23 最大直徑(mm):1500
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抛光皮|抛光垫规格尺寸:
规格 | 尺寸(mm) |
方片 | 640x640~1000x1000 |
长方片 | 590x1400~850x1700 |
圆形片 | Φ640~1340 |
厚度 | 0.5~5.0 |
型号 | 密度(lb/ft3) | 硬度(肖氏 A) | 填充物 | 典型应用 | HW-13 | 22 | 66 | 氧化铈 | 玻璃 精密光学 | HW-26 | 36 | 88 | 氧化锆 | 精密光学 | HW-46 | 25 | 74 | 氧化锆 | 光纤 精密光学 | HW-57 | 32 | 88 | 无 | 精密光学 半导体基板 | HW-66 | 26 | 78 | 氧化铈 | 玻璃 精密光学 LCD 玻璃磁盘 | HW-70 | 26 | 78 | 氧化铈 | 玻璃 精密光学 | HW-77 | 27 | 78 | 氧化铈 | 玻璃 精密光学 | HW-87 | 49 | 96 | 无 | 玻璃 精密光学 | HW-88 | 70 | n/a | 氧化铈 | 精密光学 | HW-U | 44 | 95 | 无 | 精密光学 半导体基板 | HW-013 | 37 | 84 | 无 | 精密光学 半导体基板 | HW-25 | 28 | 81 | 无 | 精密光学 | HW-35 | 37 | 90 | 氧化锆 | 精密光学 LCD | Laser | 36 | 90 | 专利 | 精密光学 |
特殊规格可订制 |
抛光皮、抛光革适用行业:
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聚胺脂抛光皮的特点:
聚胺脂抛光片肖式硬度的不同
根据镜片的磨耗度的不同选择相对应的肖式硬度的聚胺脂抛光片,肖式硬度数值越大越硬。
2.聚胺脂抛光片填充物不同
聚胺脂抛光片里的填充物(氧化铈、氧化锆)的添加是微量加入,填充物的种类不决定所用的抛光粉,例如:氧化铈可以与含有氧化锆填充剂的抛光片配合使用或者是相反。
含有氧化铈的抛光片——主要表现为提高抛光速率。
含有氧化锆的抛光片——主要表现为提高光洁度。
不含有填充剂的抛光片——主要表现为抛光过程中的光圈稳定。
3.聚胺脂抛光片发泡孔的不同
抛光片发泡孔多利于抛光粉的流动性,抛光速率要好。抛光片发泡孔少的在亲水性能上要强,因聚胺脂在长时间抛光液的浸蚀下,发泡多的变形大于发泡少的聚胺脂抛光片,因此,发泡孔多的抛光片修盘次数相应增加。
4.聚胺脂抛光片开槽的优点
为了增加抛光液的流动性、提高抛光速率,可选用开槽类型的聚胺脂抛光片,一般选择1.5T以上的厚度,开槽的型号分为10P(10x10)、15P(15x15)、20P(20x20)、30P(30x30),开槽的抛光片会减少抛光粉里的较大颗粒对镜片的划伤,主要用于平面加工
5.聚胺脂抛光片打孔的优点
为了增加抛光液的流动性、提高抛光速率,采用打孔类型的聚胺脂抛光片,一般孔的大小为2mm左右,根据镜片口径的大小、设备的转速、R值的不同,孔的排列形式分为90度、60度、45度,更适用于球面加工。
6.聚胺脂抛光片带背胶的优点
聚胺脂的粘结要选用流动性比较好的胶,有冷胶和热胶两种,如果胶层不均匀带来抛光片的不平整,而造成抛光的光圈不稳,所以采用带背胶的抛光片能达到胶层均匀,一般带背胶的聚胺脂抛光片多用平面加工。
7.聚胺脂抛光片修复使用
当聚胺脂抛光片在模具上粘附好后,应先进行修盘。通常用w40的金刚石丸片对抛光模表面(球面或平面)进行校正和开刃是十分必要的。在聚胺脂抛光摸使用的过程中,可根据需要采用刷子对聚胺脂表面进行打毛,将有助于提高抛光速率。
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抛光皮、抛光垫的储存及使用方法:
储存方法:
1.存放于阴凉、干燥、通风良好及阳光无法直接照射的地方,远离热源、发火源及不兼容物。
2.储存设备应以耐火材料构筑。
3.储存区应标示清楚,无障碍物,与工作区应分开。
4.物重压,堆栈勿超过三层。
安全处置:
1.除去所有发火源并远离热及不兼容物。
2.工作区应有"禁止抽烟"标志。
3.保持走到和出口畅通无阻。
4.穿戴式当的个人防护设备,以避免与此制品或受污染的设备接触。
5.长时间大量使用或在加工过程中需要戴防尘口罩。
保存期限:半年
包裝方式: 20片一箱(2片/每一包装袋)
产品制造: 品性依据ISO9001规范
保存条件:温度范围=10°C~30°C ,湿度范围危险特征:产品本身没有刺激性,对人体无害。
废弃物处理: 必须加以处置按照适用的国家和地方法规。
伟硕科技专业从事表面处理材料的生产与销售,经过多年的人才引进和技术改造, 拥有精湛的研发技术、多渠道的供销体制和极高的商业信誉,业己成为集研发、生产与销售于一体的现代工业科技企业。专业生产抛光皮,抛光垫,缓冲垫,吸附垫,抛光粉,研磨粉,抛光液,研磨液等抛光研磨耗材,抛光打磨,清洗材料,磨具磨料,广泛应用在精密光学玻璃,眼镜、陶瓷制品,荧光屏,照相机镜头,液晶显示玻璃基片, 石英玻璃,半导体等材料抛光。制造各类结构陶瓷、电子陶瓷、生物陶瓷、高级耐火材料、光通讯器件、氧传感器、固体氧燃料电池等的磁力抛光机,磁力研磨设备,震动(研磨)光饰机,滚动(研磨)光饰机,涡流式(研磨)光饰机,离心(研磨)光饰机等配套使用
全国服务热线:0512-51533691 王生