| 名 称：二氧化铪 | | 熔 点：2812℃ | | | | |
| 符 号：HfO2 | | CAS 号： 12055-23-1 | | |
| 原子量：210.49 | | 密 度：9.68g/cm3 | | | | |
| 纯 度：4N | | | | | | | |
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| 产品规格 | 状态 | 纯度 | 尺寸 | | 包装 | | | |
| 颗粒（黑色） | 4N | 1-3mm或压片状 | 100g，500g，1kg | | |
| 颗粒（白色） | 4N | 1-3mm或压片状 | 100g，500g，1kg | | |
| 粉末 | 4N | 200目 | | 100g、250g、1kg | | |
| 靶材 | 4N（进口料） | Φ50.8、Φ76.2、Φ101.6 | 片 | | | |
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| 产品优点 | 蒸发压力：在2678℃时1Pa；在2875℃时10Pa
线膨胀系数：5.6×10-6/K
溶解度：不溶解于水
薄膜特性：透光范围～220～12000nm；折射率（250nm）～2.15 （500nm）～2
蒸发条件：用电子枪，氧分压～1～2×10-2Pa。蒸发温度～2600～2800℃，基片温度～250℃，蒸发速率2nm/s
应用领域:UV增透膜，干涉膜 |
| 产品用途 | 磁控溅射镀膜材料等 |
| 产品附件 | 正式报价单/购销合同/装箱单/材质分析检测单/正规发 票 | | |
| 产品包装 | 真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装 | | | |
| 制作工艺 | 化学精炼法，电解精炼法，萃取精炼法等 | | | | |
| 适用仪器 | 各类型号磁控溅射设备 | | | | | |
| 交货期 | 单片材料1周内发货，批量材料7—10个工作日内发货 | | | |
| 产品运输 | 国内快递承运（顺丰，韵达等） | | | | |
| 起订量 | 靶材一片起订，粉末颗粒100g起订 | | | | |
| 官方网站 | | | 咨询QQ：2850734040 | | |
联系方式
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