氮化镓靶材（GaN Sputtering target）（同时长期提供高纯氮化镓粉末）
尺寸：50.8mm*5mm/3mm（尺寸可按照要求定制）
公差：正负0.1mm
颜色：淡黄色微偏绿
纯度：4N/5N
致密度：大于90%
起定量：1片
产品特点：纯度高，相对致密度好，晶粒均匀
包装：适合运输的包装
详情欢迎来电咨询
公司网址：www.cdalfa.com
成都阿尔法金属材料有限公司成立于2014年，主要生产，研发，销售各种高纯金属材料，半导体化合物，真空镀膜材料，高纯高致密磁控溅射靶材，各种合金产品。公司以诚信为本，质量第一为经营理念。以市场为先导，不断创新，研发各种新型材料，满足客户需求。成都阿尔法金属材料有限公司提供各种靶材，蒸发料，用于磁控溅射工艺制备铜铟镓硒(CIGS薄膜) 碲化镉(CdTe薄膜) 铜锌锡硫（CZTS薄膜）等各种化合物溅射靶材
一，四元合金靶材：CuInGaSe（CIGS ）靶材1，常规原子比：1：0.7：0.3：2或者 1：0.8：0.2：2（客户亦可根据自身工艺制订原子比例）技术对接：CVD合成四元合金（高精分析天平称量，各种元素的配比公差低于百万分之一）
--氮气保护下研磨制粉–HP（热压）--检验—打磨，抛光。2，检验：ICP-MS；XRD通过ICP-MS
检测杂质含量：5N的CIGS 靶材的杂质元素总和小于10ppm.通过XRD衍射：CIGS 具备闪锌黄铜矿结构。（可提供检验报告和样品）。3，靶材致密度：大于93%。4，服务：可免费提供导电玻璃和99.999%的硒粉。硒粉用于客户最后的硒化工艺，因为磁控溅射CIGS的过程中有硒的流失。5，安全防护措施：提供MSDS及溅射过程中的必要防护。二，三硒化二铟（In2Se3）靶材；三硒化二镓（Ga2Se3）靶材，硒化亚铜（Cu2Se），或者硒化铜（CuSe）靶材技术对接：CVD 合成二元合金–HP（热压）--检验—打磨，抛光。三，铜镓（CuGa）；铜铟（CuIn）；铜镓铟（CuGaIn）靶材配方原子比例：客户可自选，我方亦可以提供常规原子比例。四，铜（Cu）靶；铟（In）靶，硒（Se）靶技术对接：浇铸五，CIGS配套靶材N型：硫化镉（CDS）靶，硫化锌（ZnS）靶，硒化锌（ZnSe）靶。氧化锌铝（AZO）靶，钼（Mo）靶1，由于硫化镉有毒，所以硫化锌，硒化锌靶为其替代品。试验表明硒化铟也有此属性。2，硫化镉，硫化锌，硒化锌制备工艺：CVD 高纯氩气携带金属蒸汽（镉，锌蒸汽）进入反应室与过量的H2S，H2Se 气体气相沉积而成。六，碲化镉（CdTe）靶材；硫化镉（CdS）靶材；靶材特点：高致密，高纯度，晶粒细，焊接工艺成熟提供靶材如下:碲化物靶材：碲化铋（Bi2Te3）靶材；碲化锑（Sb2Te3）靶材；碲化锌（ZnTe）靶材；碲化铜（CuTe）靶材；碲化铅（PbTe）靶材；碲化铟（InTe）靶材；碲化镉（CdTe）靶材等硒化物靶材：硒化铋（Bi2Se3）靶材；硒化铜（CuSe）靶材；硒化铅（PbSe）靶材等锑化物靶材：锑化铟（InSb）靶材；锑化镉（CdSb）靶材；锑化锌（Zn4Sb3）靶材等硫化物靶材：硫化锌（ZnS）靶材；硫化铟（In2S3）靶材；硫化镉（CdS）靶材；硫化铋（Bi2S3）靶材；硫化镓（Ga2S3）靶材；硫化铜（CuS）靶材等氧化物靶材：氧化锌（ZnO）靶材；氧化镓（Ga2O3）靶材；氧化铟（In2O3）靶材等氮化物靶材：氮化铟（InN）靶材；氮化镓（GaN）靶材
