DI,DI曝光机,德国DI曝光机,DI直接成像曝光机
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MIVA-DI直接成像系统 详情说明
Advanced Direct Imaging
Made in Germany 德国制造
State October 2014
1、技术优势：
所有MIVA 位图影像系统使用独特的曝光程序，使用高效率半导体光源系统和高解析度的光学模组，此系统将高清晰度的
影像转移至感光基材，根据产品需求解析度可从3000DPI 到128000DPI，光学头在板材上方连续移动曝光，高解析度的
线性电机和光学尺可实现精准的位置控制。
2、产品特点：
初始投入少：购机成本PCB 行业最低，节省传统菲林和曝光机成本，缩短生产时间，特别适用于周期要求短的样板制作。
使用维护成本低：光源寿命长达3 年，厂家提供两年免费保修，可保证极低的使用和维护成本。
待机时不消耗光源：采用“瞬间”曝光模式，无曝光时光源处于关闭状态，不消耗电能，同时提高光源使用寿命，
内置板面清洁系统：内置喷气式空气清洁系统可清洁板面曝光区域，降低对整体环境的要求；特有的DI 多次曝光系统可有
效的防止空气中尘埃粒子阻挡光束产生阴影而导致图形品质的降低。
3、耗电低：
待机时只需消耗350W，曝光时消耗2.5KW，这其中一半的能量是由吸板真空泵所消耗，故机台本身十分节能。
机台可使用单相电源。
4、无需暖机程序：
开机初始化完成，可立刻投入生产
5、一体化的光学系统设计-无漂移：
DI 的光学系统无需扫描整个曝光面，从而降低了光学元件发热产生的影响。
实时数据处理：系统实时同步处理数据，可以动态处理板面涨缩和旋转的变化，可选在板面和排版内打印序号标记
高灵活性：对位影像系统可使用单一设定对同一批板子和根据每一张板子的标靶进行单独涨缩曝光
6、可升级：
可根据客户的需求进行光学模组数量的升级，以满足客户提升产能的要求。
