主要用途
  全数字化中频磁控溅射电源适用于中频孪生靶磁控溅射金属和非金属材料。本电源能增加离化率，减小电荷积累，预防靶表面中毒现象。特别适用于反应磁控溅射镀制ITO膜、介质膜、绝缘保护膜。也可适用于PVD、CVD技术以金属、半导体靶材制备高密度、高硬度、高亮度、高透明度的单质、化合物膜层。
主要特点
1、 采用高频转换技术，高效节能、反应迅速，双级脉冲方波输出，占空比20%—80%连续可调，脉冲频率 20—40KHZ连续可调，具有恒压、恒流、恒功率工作模式，适应各类特殊工艺要求，可实现双靶溅射，具有优异的灭弧性能。
2、 全数字化控制、精度高、重复性好；配有控制面板和控制程序，根据工艺要求设定工艺参数实现近地控制和远程控制（配有通讯接口）。
3、 空载电压：1200V-1300V，工作电压：200V-800V
4、 电源功率：20KW、40KW 、60KW、 80KW 、  100KW