氧化铝抛光液
本系列产品为水溶液,WA粉体内核坚实,粒径
分布均匀,分散性好,抛光研磨过程中摩擦系
数大、效率高,能取得较高的抛光效率和表面
质量。尤其针对金属材料表面研磨抛光加工,
可取得超镜面效果
产品介绍:
本产品为水性研磨剂,WA粉体内核坚实,粒径分布均匀,分散性好、抛光研磨过程中摩擦系数大,效率高,
能取得较高的抛光效率和表面质量。尤其针对金属材料表面研磨抛光加工,可取得超镜面效果。
技术参数:
外观 | 白色液体 |
平均粒径(um) | 1.3 |
PH | 4.3 |
研磨速率(um/min) | 0.15 |
产品特征:
1.分散性好、不划伤工件。
2.悬浮性好,不易沉淀,使用方便。
适用范围:
适用于晶体表面、宝石、光学镜头、微晶玻璃基板、玻璃制品、金属制品、半导体材料、等方面的精密抛光。