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1 02800882 多层布线基板、多层布线基板制造方法、多层布线基板研磨机及制造布线基板的金属板
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3 97199370 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
4 00811731 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
5 200710149285 圆盘状基板的内周研磨方法和内周被研磨的圆盘状基板
6 200710186662 研磨装置、研磨刷及圆盘状基板的制造方法
7 200810009688 圆盘状基板的研磨方法、研磨装置
8 02819886 CMP用研磨垫片、使用它的基板的研磨方法及CMP用研磨垫片的制造方法
9 200310100582 用于精研玻璃基板的玻璃研磨设备及玻璃研磨方法
10 200410100116 玻璃基板边缘研磨系统及其方法
11 200410048737 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
12 03818946 CMP研磨剂及基板的研磨方法
13 200310101489 基板研磨装置及基板研磨方法
14 200310100659 用于携带型研磨机的研磨基板
15 03119819 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
16 03119818 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
17 200410005562 分散稳定性良好的研磨剂浆体及基板的制造方法
18 200510125382 半导体基板用研磨液组合物
19 200510129495 玻璃基板用研磨液组合物
20 200480022498 AMLCD基板边缘的压力进给研磨
21 200480026635 研磨布及其加工方法及使用该研磨布的基板的制造方法
22 200610088503 CMP用研磨液及其制备方法以及基板的研磨方法
23 200580001707 GaN基板的研磨方法
24 200610142509 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
25 200610141662 半导体基板用研磨液组合物
26 200610141890 化学机械研磨用研磨剂及基板的研磨法
27 200610101543 化学研磨装置及其玻璃基板
28 200710001563 CMP研磨剂及基板的研磨方法
29 200610169045 玻璃基板用研磨液组合物
30 200610163754 硬盘基板用研磨液组合物
31 200710096425 CMP研磨剂及基板的研磨方法
32 200710100940 研磨玻璃基板的制造方法
33 200710101113 磁盘基板用研磨液组合物
34 200710127194 玻璃基板用研磨液组合物
35 200810011077 计算机硬盘基板研磨用清洗液
36 200810086581 GaN基板的研磨方法
37 200780001233 磁盘用玻璃基板的制造方法、磁盘的制造方法及磁盘用玻璃基板研磨装置
38 200810173817 硬盘基板用研磨液组合物
39 200780014174 氧化物粒子的制造方法、浆料、研磨剂和基板的研磨方法
40 200810173835 研磨布及其加工方法及使用该研磨布的基板的制造方法
41 200910005941 研磨装置、具有研磨部件的电路基板试验装置及制造方法
42 200780033479 CMP研磨剂、CMP研磨剂用添加液以及使用了这些的基板的研磨方法
43 200910145201 化学机械研磨用水系分散体、电路基板及其制造方法
44 200910149143 基板端面研磨装置及研磨判定方法
45 200810184455 氧化铈研磨剂以及基板的研磨方法
46 200820110948 玻璃研磨机玻璃基板支撑结构
47 200820131288 平面显示器用玻璃基板的外部机械研磨装置
48 200820222682 玻璃基板研磨机电机用恒温冷却恒温水箱
49 200920145787 玻璃基板研磨削减装置
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