化学气相沉积(CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术，包括大范围的绝缘材料，大多数金属材料和金属合金材料。从理论上来说，它是很简单的：两种或两种以上的气态原材料导入到一个反应室内，然后他们相互之间发生化学反应，形成一种新的材料，沉积到晶片表面上。淀积氮化硅膜(Si3N4)就是一个很好的例子，它是由硅烷和氮反应形成的。

管式炉结构

烟囱和烟道：

      其作用是将炉膛的烟气排入大气中，内部均用耐火和保温材料衬里。为调节烟气排除速度，还装有可活动挡板。烟气流动为上抽式的加热炉烟囱安装在对流室上部；烟气流动为下行式的加热炉，烟囱安装在炉侧，并设有烟道。

  吹灰器：

       其主要作用是防止积灰，尽量保持炉管表面始终干净，用以强化对流管的对流传热，提高炉的热效率。炼厂应用的吹灰器有自动伸缩式和固定旋转式两种。

 管式气氛炉主要运用于冶金，玻璃，热处理，锂电正负极材料，新能源，LED发光材料，磨具等行业测定材料在一定气氛条件下的专业实验设备，是大专院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产之用。使用不同的加热元件，型号齐全，安全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。