HPF系列光谱仪测量薄膜厚度

捷扬光电的膜厚测量系统基于白光干涉测量原理，可以测量的膜层厚度10nm-50μm，分辨率为1nm。薄膜测量在半导体晶片生长过程中经常被用到，因为等离子体刻蚀和淀积过程需要监控；其它应用如在金属和玻璃材料基底上镀透明光学膜层也需要测量膜层厚度。配套的捷扬光谱分析软件包括丰富的各种常用材料和膜层的n值和k值，可以实现膜层厚度的在线监测，并可以输出到Excel文件进行过程控制。

HPF系列光纤光谱仪用于氧含量的测量

氧含量的测量原理是通过测量光纤探头荧光图案的光致荧光衰减来分析氧含量的变化，具体结构如图2-3所示。其采用镀有钌氧化物的探头，探头通过Y形光纤和LED光源以及光谱仪连接，如果探头尖端的钌错体遇到氧分子，其激发出来的荧光就会减弱，根据探测的荧光信号就可以计算氧分压。

HCE系列光谱仪用于吸光度测量

吸光度测量是指测定光传输介质中吸收光的溶液和气体的浓度，也可以测定固体样品的透射率，其结构一般采用宽光谱连续光源配合宽光谱的光谱仪，最通用的配置为使用氘-卤钨灯光源结合HCE-02光谱仪，选择#2光栅时其测量范围为300~900nm，分辨率为~1.5nm。内置滤光片消除光栅的二级和三级衍射效应。