1、 本光亮剂出光速度快，深镀能力强，柔软性好，整平性特强；

2、 本光亮剂无论高，低电流密度区均可获得光亮夺目的白亮镀层；

3、 本光亮剂更适合于复杂件电镀，对镀液中各种杂质容忍极高。

4、 适合作为镀铬、古铜、金、银等金属之光亮镀镍底层。

1、 在备用槽内加入所需体积二分之一的水，将水加热至60～70℃加入所需硫酸镍和氯化镍，充分搅拌至溶解；

2、 用10%稀硫酸(CP)调pH值至3.0，加入2～3ml/L双氧水(30%)，搅拌半小时，然后用4%氢氧化钠溶液(碳酸镍固体)调pH值至5.5～6.0，并加温至65～70℃，保温半小时；

3、 维持水温在50～55℃，加入2～3g/L活性碳，充分搅拌半时，静置数小时，过滤至镀槽；

4、 将所需硼酸另外用沸水溶解，过滤后加入镀槽；

5、 加水至接近预定体积，用10%稀硫酸(CP)调PH至3.0恒温在55℃左右，用瓦楞阴极在DK≈0.3A/dm2左右电解处理，至瓦楞板上低电流密度区银灰色为止；

6、 取少量镀液，用霍尔槽及小型镀槽加入所需添加剂NI3000，在正常工艺条件下试镀，若不正常, 则将大槽内镀液继续进行电解处理，至正常为止；

7、 在大槽内，按规定量加入添加剂，在正常条件下试镀，直至正常。

1、 配制槽液选用的硫酸镍、氯化镍、硼酸的杂质尽量纯净，性能优良。

2、 硼酸的溶解度不高，一般需要另外用沸水溶解后倒入槽中，并且在活性炭处理过滤后加入，防止硼酸过滤析出。

3、 活性炭处理槽液时候，活性炭的加入应该按照“少量多次”的补加原则。

4、 瓦楞板：波浪状的板，一般使用铁片即可。第一次使用一定要事先全部镀层镍。

5、 电解槽液。电解前先用大电流DK≈3A/dm2电解1-2分钟后使用DK≈0.3A/dm2电解。如果电解过程中镀层发黑，需要打磨后再继续电解，至瓦楞板上低电流密度区银灰色为止。

NI除杂走位水、QF除铁粉的使用

在镀镍过程中，镀槽内经常有铁杂质，铜离子，锌离子等杂质产生，影响镍镀层的质量，因此本公司特别推荐NI除杂走位水和QF除铁粉这两款产品。

这两款产品不仅能够有效的除去镀液中的杂质，还有一定的覆盖和分散能力，使镀层质量大大提高。

其功能如下：

1、NI除杂走位水用于锌合金基材镀镍、除锌、除铜，它能改变锌、铜离子电位与镍共沉积。加入1-2ml/L NI除杂走位水可沉积20mg锌及10mg铜杂质，消耗量：100ml/KAH

2、NI除杂走位水具有强烈覆盖和分散功能，特别适合深孔电镀。

3、NI除杂走位水能够抵消过多的主光剂，使槽液光剂保持稳定性，使镀件保持高雅白亮镀层。

4、当电镀铁管状工件时，槽液中有较多的铁杂质，使镀件产生毛刺，加入QF除铁粉0.1-0.2g/L能使毛刺和针孔消除。

5、光亮镍、珍珠镍除杂水，络合性除锌、铜杂质直接加入镀槽不影响生产，消耗量：100ml/KAH