1、 阴极电流效率高达22%-26%，是传统标准镀铬工艺的2-3倍，节约能源；

2、 使用电流密度宽广，30-90A/dm²均可，沉积速度快；

3、 不含氟化物，对基体的低电流密度区不产生腐蚀，对阳极无腐蚀；

4、 镀层硬度HV可达1000-1100，微裂纹数达400-1000条/cm；

5、 镀层光亮、平滑细致，厚度均匀，深镀能力佳；

6、 镀液稳定，易操作，维护方便。

HVEE补给量：补加100kg铬酸加2kgHVEE。