晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。
光刻机性能指标分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。
光刻注意事项给出如下： 基片准备
由于基片的表面状态对其后所涂胶模的黏附性影响较大，所以一定要保证基片的清洁和干燥，以使得胶模黏附性较好。通常的做法是涂胶前将基片在热板上以150℃的高温烘烤几分钟；也可以增涂增粘剂（HMDS）。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。我公司的客户主要分布在北京，上海，苏州，无锡，绍兴，深圳，东莞，厦门，福州，西安等地区。
高端的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常在十几纳米至几微米之间，高端光刻机号称世界上最精密的仪器，世界上已有7000万美金的光刻机。
晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。由于我们的客户遍布全国各地，我们有专业的设备存储，运输及调试的一条龙服务团队。
分类光刻机一般根据操作的简便性分为三种，手动、半自动、全自动A手动：指的是对准的调节方式，是通过手调旋钮改变它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了
