张家港晋宇达电子科技有限公司

      光刻机的匹配使用是半导体工艺大生产线上提高生产效率的一项重要措施。光刻机的匹配主要包括场镜误差的匹配和隔栅误差的匹配，如何调整相同型号光刻机的匹配使用将是本文论述的重点。

所谓光刻机的匹配使用是指同一产品不同的工艺图层可以分别在不同型号或同一型号不同系列的光刻机上进行光刻，而不影响光刻工艺的质量。

        光刻机的匹配调整是-项非常复杂的工作，在进行调整时，以下几点准则应当遵循：

●匹配使用的光刻机，首先应该是各单台光刻机调整到设备本身的最.佳状态，各项技术指标必须在设备规定的范围之内。

●设备进行匹配调整时，凡是能通过软件修正量的改变能实现的尽量使用软件方式来调整，因为软件调整是可改变的，可恢复的。而机器硬件调整的可恢复性比较差，特别是有严格精度要求的，基本上没有硬件调整的余地。

       晋宇达电子是一家专门从事提供集成电路生产线关键设备 光刻机的销售、安装、翻新、改造、再制造、备件耗材及技术咨询成套解决方案的高新技术企业。

光刻注意事项给出如下：

曝光

曝光是通过具有所要图形的模版，将图形传递到胶模上。光源一般采用汞灯或汞氙灯，所发光波长为紫外。对于正胶来说，曝光使得透光区的大分子链被破坏，显影的时候这部分被去除；而对于负胶来说，曝光使得透光区的小分子发生交连，显影时这部分被保留。所以正、负胶对于同一块模版来说，所刻出的图形是互补的。