光学扫描器分为X方向扫描系统和Y方向扫描系统，每个伺服电机轴上固定着激光反射镜片。每个伺服电机分别由计算机发出数字信号控制其扫描轨迹。

聚焦系统的作用是将平行的激光束聚焦于一点。主要采用f-θ透镜，不同的f-θ透镜的焦距不同，打标效果和范围也不一样，光纤激光打标机选用进口高性能聚焦系统，其标准配置的透镜焦距f=160mm，有效扫描范围Φ110mm。用户可根据需要选配型号的透镜。

可选配的F-θ透镜有：

f=100mm，有效聚焦范围Φ65mm。

f=160mm，有效聚焦范围Φ110mm。

半导体激光打标机优点：激光光束模式好，电光转换效率高，耗电少，免维护；有些光电量测厂商把量测设备中 激光的光源由最初的He-Ne激光改成二极管激光，以取得机器寿命（He-Ne激光寿命一般为10^4HR，而二极管激光寿命为10^5HR，相差 十倍），特别适合现场长时间的操作；瞬间即可达到开关的作用，适宜通信用途。并且半导体激光打标机一开机很快便稳定下来，又很合适用电路调制其输出，比如 可使用脉波调制法量测距离（而He-Ne激光打标机必须开机三十分钟后才稳定下来，这点是万万比不上半导体激光打标机了）；利用周期表中的Ⅲ/V族，例如 砷化镓等化合物可制成二极管激光，当电流通过pn界面时，将因化合物的不同而发出各种可见激光及不可见激光。半导体激光只要改变组合元素的比例，便可改变 不同的能量间隔，不同的能量间隔，提供了不同的输出波长，由于具有红外线及红色波长，在通信及量测上很容易与各种传感器配合而得到很广泛的用途；操作简单 方便，打标质量精度高；机械性质方面：结构紧凑、坚固、体积小的优点。

激光打标是用激光束在各种不同的物质表面打上的标记。打标的效应是通过表层物质的蒸发露出深层物质，或者是通过光能导致表层物质的化学物理变化而'刻'出痕迹，或者是通过光能烧掉部分物质，显出所需刻蚀的图案、文字。　

公认的原理是两种：

“热加工”具有较高能量密度的激光束（它是集中的能量流），照射在被加工材料表面上，材料表面吸收激光能量，在照射区域内产生热激发过程，从而使材料表面（或涂层）温度上升，产生变态、熔融、烧蚀、蒸发等现象。