CZA系列型光谱分析用氩气净化机氩气净化器氩气净化装置现货销售
净化原理
该净化机利用催化剂促使氩气中的微量氧气与碳反应生成二氧化碳,从而除去氩气中的杂质氧气,再利用分子筛吸附脱除氩气中的H2O、CO2等杂质,再利用合金吸附剂吸附脱除氩气中剩余的的N2等惰性杂质,即可得到高纯氩气。
氩气净化机的技术参数
对原料氩气要求
一般瓶装纯氩,液氩、控制较好的管道氩气。
杂质要求: O2≤1000PPm, H2O≤1000PPm。
输出纯气
纯度:99.9999%
杂质含量:
O2≤0.1PPm,
H2O≤1PPm(即露点≤-76℃),
N2≤0.5PPm
CO+CO2≤0.1PPm,
S、P的氧化物≤0.1PPm。
尘埃粒子数(≥0.3μm)3-5个/升。
工作压力:0.4-0.8MPa。
处理气量:4NM3/h。
设备尺寸:600mm×700mm×1600mm
设备重量:150kg
设备特点
1) 催化剂活性高,净化后的气体纯度高。
2) 双式结构,一组工作另一组再生备用,故能长期连续供气。
3) 采用本机纯气吹扫的再生流程,再生不用氢,故不需专用机房,安全性好。
4) CZA-4C对再生具有自动功能,操作比老产品更简单,并且不易出错,性能也更稳定可靠。
5) CZA-4C克服了老产品偶尔会产生“假断偶保护”使再生不能进行的缺点。
6) 系统采用零泄露的波纹管阀门,设备的可靠性更高。
7) 采用分级净化的原理,预先除去氩气中的活性杂质,如O2、H2O、CO2等,再深度净化,大大延长了设备的使用寿命。
8) 增加了除氮功能,氩气的纯度更高。
CZA-4C型氩气净化机可与美国热电,德国斯派克、OBFL、布鲁克;瑞士ARL,牛津光谱、日本岛津,北京纳克,英国阿朗,北京瑞利等多家光谱仪公司生产的直读光谱仪、荧光光谱仪、辉光光谱仪配套使用,以增强分析数据的可靠性和稳定性,同时可以较大的节省购买高纯氩气的成本。该型机器尤其适用于与带氮通道的直读光谱仪配套使用,同时该净化机也可用作高纯材料(如单晶硅、多晶硅、高纯金属)生产的保护气氛。
售后服务
为了解除用户选用我公司产品的后顾之忧,我们一贯奉行如下的满意服务标准。
1.如果产品本身存在任何质量问题,我公司负责包修,包换,包退;2.如果产品在运输途中损坏,我公司负责包修,包换,包退;
3.在保修期内的使用损坏,我公司负责包修,包换,包退;
4.产品的免费保修期为一年;
5.我公司提供终身有偿维修服务,只收取相关维修材料费用及差旅费用。
高纯氩气纯化设备
概述
氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气体,为了提高硅晶体的质量,如何选用较高纯度的氩气,是制作硅晶体的一个议题。通过对本装置的使用,氩气的纯度其中氧含量小于1ppm时,水分也小于1ppm时,制作出的单晶硅其氧碳含量就小于0.5ppm,这样就提高了单晶的使用寿命并能达到要求,赢得客户的满意和市场的需求。
由于一般液氩汽化后未经过纯化处理,它的氧含量一般在2ppm~5ppm。有时气体供应商提供的氩气超过了此范围,使用氩气的客户不知道其质量,所以往往给生产产品质量造成影响。有了氩气纯化装置后不论氩原料气的质量如何,只要经过纯化装置的处理后,进入拉晶炉的氩气,纯度始终是恒定的。
一般氧含量小于0.5ppm,水分小于1ppm,这样稳定的氩气对生产晶体的质量是有保证的。
关于氩气纯化的方法
第一种
直接脱氧法。就是使用活性金属与氩气中的氧气进行反应,消化掉氩气中的氧气,从而达到脱氧的目的,经过分子筛吸收掉氩气中的水份,使氩气的含水量小于1ppm。
第二种
是采用吸气剂。在一定温度下,吸气剂可吸收氮、氢、氧、一氧化碳、二氧化碳、甲烷等气体经吸收处理后,氩气的纯度可达到6个九,这种保护气体更适用于制作高纯度的半导体的单晶硅。
利用吸气剂纯化后氩气的纯度:
O2≤0.2ppm
H2≤0.5ppm
N2≤1ppm
CO+CO2≤0.5ppm
CH4≤0.5ppm
水份≤1ppm
第一种方法设备投资小,设备中脱氧剂的使用寿命一般大于四年。
第二种方法设备纯化纯度高但投资相对较大,吸气剂使用寿命为两年。
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氩气用途
高纯氩气用于焊接、不锈钢制造、冶炼,还用于半导体制造工艺中的化学气相淀积、晶体生长、热氧化、外延、扩散、多晶硅、钨化、离子注入、载流、烧结等氩气作为制作单晶及多晶硅的保护气。
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