TEL Mark8涂胶显影设备

上海图双精密装备有限公司

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1.公司拥有光刻/涂胶机翻新改造的核心技术和能力。

2.针对8寸及以下的不同硅片尺寸（包括特殊材质衬底如碳化硅、氮化镓、蓝宝石等）、不同掩模版尺寸的要求，可实现自主设计、加工制造、集成调整的改造能力。

3.对光刻整机系统能够进行包括光学系统在内的全面翻新、调试、测试，具备完整的运行保障能力，包括备品备件供应等。

涂胶机Mark8设备

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