安智 AZP4620 AZP4400 AZP4210 AZP4330 光刻胶
深圳市启耀光电有限公司
中国 深圳
产品属性
图文详情
品牌推荐
品牌/厂家
深圳启耀光电
产品名称
安智AZ50XT
牌号
安智AZ50XT AZ10XT AZGXR-601 AZ5214E 光刻胶
类型
元素半导体材料
材质
曝光显影油墨
用途
圆形化衬底（PSS）
外观
使用各种显影工艺
产地
G线I线通用
密度
宽膜厚g/cm3
硬度
纹理油墨Kg/mm2
特性
高感光度
电阻率
显影好Ω*m
适用温度
安智 光刻胶℃
规格尺寸
光刻胶 现货 mm
现货供应大学研究所 正性 负性 电子信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高感光度
现货供应中科院 正性 负性 干膜 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高产出率
现货供应 研究所 正性 负性 报告 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 干法刻蚀
现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚
现货供应光机所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定
现货供应大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 附着性好
现货供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 湿法刻蚀
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 成份稳定
现货供应光机所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高
现货供应研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛
现货供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
现货供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 干法刻蚀，湿法刻蚀
现货供应研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
现货供应光机所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛
现货供应大学研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高
现货供应中科院 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 高纵宽比
现货供应光电实验室 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 附着性好
现货供应光机所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性
现货供应研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺
现货供应大学研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用
现货供应中科院 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
现货供应光电实验室 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率
现货供应研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀
现货供应光机所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 成分稳定
现货供应大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
现货供应中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好
现货供应光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围
现货供应光机所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转
现货供应研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高
现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 论文验证
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高
现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高感光度
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 论文验证
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 应用广泛
现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高感光度
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 论文验证
中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 应用广泛
现货供应光刻胶 显影液 剥离液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应厚膜正型光刻胶 显影液 剥离液 AZ400K AZ300MIF 适用各种显影工艺
现货供应光刻胶 Puddle工艺 显影液 腐蚀剂 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应光刻胶 Dip工艺 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 去除 无需表面活性剂
现货供应大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好
现货供应中科院 正性 负性 干膜 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 高产出率
现货供应 研究所 正性 负性 报告 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 干法刻蚀
现货供应 光电实验室 正性 负性 聚酯型 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 宽膜厚
现货供应光机所 正性 负性 信息 光刻胶 PR 安智AZ AZ6112 AZ6130 成分稳定
现货供应大学研究所 正性 负性 厚浆 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 附着性好
现货供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 湿法刻蚀
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 成份稳定
现货供应光机所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 可靠性高
现货供应研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ1500 应用广泛
现货供应大学研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
现货供应中科院 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 附着性好
现货供应光电实验室 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 干法刻蚀，湿法刻蚀
现货供应研究所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 G线I线通用
现货供应光机所 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ3100 刻蚀工艺 应用广泛
现货供应大学研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 分辨率高
现货供应中科院 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 高纵宽比
现货供应光电实验室 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 附着性好
现货供应光机所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 电镀工艺高耐受性
现货供应研究所 圆片级封装（WLP) 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZ50XT AZ10XT 凸点UBM工艺
现货供应大学研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 G线I线通用
现货供应中科院 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高感光度
现货供应光电实验室 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 高产出率
现货供应研究所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 干法刻蚀
现货供应光机所 圆形化衬底（PSS）正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZGXR-601 成分稳定
现货供应大学研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E
现货供应中科院 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 分辨率好
现货供应光电实验室 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 宽膜厚范围
现货供应光机所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 正/负反转
现货供应研究所 lift-off工艺 正性 负性 光刻胶 蒸镀 PR 安智AZ AZ500 AZ5214E 可靠性高
现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高对比度
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 高感光度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 成分稳定
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 论文验证
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4620 AZP4400 附着性高
现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 高感光度
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 论文验证
现货供应中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4210 AZP4330 应用广泛
现货供应大学研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高对比度
现货供应光电实验室 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 高感光度
现货供应光机所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 附着性高
现货供应研究所 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 论文验证
中科院 电镀工艺 高耐受性 正性 负性 光刻胶 PR 安智AZ AZP4903 应用广泛
现货供应光刻胶 显影液 剥离液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应厚膜正型光刻胶 显影液 剥离液 AZ400K AZ300MIF 适用各种显影工艺
现货供应光刻胶 Puddle工艺 显影液 腐蚀剂 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 无需表面活性剂
现货供应光刻胶 Dip工艺 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 去除 无需表面活性剂
现货供应大学研究所 光刻胶 显影液 去膜剂 AZ400K AZ300MIF 显影效果好
