一、桌面式小型电弧炉产品简介

桌面式​小型电弧炉主要用于熔炼高熔点金属/合金，用于熔炼特殊钢、活泼的和难熔的金属如钛、钼、铌，以及真空吸铸法制备大块非晶材料。

适用于高校及科研院所进行真空冶炼新材料的科研与小批量制备。本设备采用桌

面式结构，占地空间小。

二、桌面式​小型电弧炉产品特点

1、采用高纯氩气保护，最高熔炼温度可达3500℃

2、真空腔体小，可快速抽真空，快速充氩气，效率快及氩气消耗非常少

3、水冷铜电极可移动，可同时熔炼多个样品

4、水冷铜坩埚可方便拆卸

5、采用真空计测量真空，压力传感器和电磁阀保护炉内压力

6、采用超温保护和加装滤光玻璃保护眼睛

7、桌面式设计，占地空间小，特别节约实验空间和能源

三、小型电弧炉设备参数：

  1·设备电源，AC220V 50HZ

  2·设备功率：10kw

  3·设备容量：0~20g

  4·水冷铜模：标准铜模中带有一个12*φ25；5个4*φ8样品锅，另可根据客

户要求定制

  5·真空吸铸：（选配）吸铸直径0~3mm