UV光催化氧化净化设备

本产品利用特制的高能高臭氧UV 紫外线光束照射废气 ，裂解工业废气 如：氨 、三甲胺 、 硫化氢 、甲硫氢 、甲硫醇 、甲硫醚 、二甲二硫 、二硫化碳和苯乙烯 ，硫化物 H 2 S 、VOC 类 ，苯   、甲苯、 二甲苯的分子链结构， 使有机或无机高分子恶臭化合物分子链， 在高能紫外线光束 照射下，降解转变成低分子化合物，如CO 2 、H 2 O 等。

利用高能高臭氧UV紫外线光束分解空气中的氧分子产生游离氧，即活性氧，因游离 氧所携正负电子不平衡所以需与氧分子结合，进而产生臭氧。

UV＋O 2 →O-+O＊( 活性氧 )O+O 2 →O 3 ( 臭氧 ), 众所周知臭氧对有机物具有极强的 氧化作用，对工业废气及其它刺激性异味有立竿见影的清除效果。

工业废气利用排风设备输入到本净化设备后，净化设备运用高能UV紫外线光束及臭 氧对工业废气进行协同分解氧化反应， 使工业废气物质降解转化成水和二氧化碳， 再通过 排风管道排出室外。

利用高能UV光束裂解工业废气中细菌的分子键，破坏细菌的核酸（DNA），再通过臭氧进行氧化反应，彻底达到净化及杀灭细菌的目的。

产品特点

  高 效 除 恶 臭：能 高 效 去 除 挥 发 性 有 机 物（VOC）、无 机 物、硫 化 氢、氨 气、硫 醇 类等主要污染物，以及各种恶臭味，净化、脱臭效率最高可达99% 以上 。

  运行成本低： 本设备无任何机械动作， 无噪音， 无需专人管理和日常维护， 只需作 定期检查，本设备能耗低 ，（每处理 1000 立方米 / 小时，仅耗电约 0.2 度电能 ），设备 风阻极低＜50pa,可节约大量排风动力能耗。

  设备占地面积小， 自重轻： 适合于布置紧凑、 场地狭小等特殊条件， 设备占地面积 ＜1 平方米 / 处理 10000 m3 /h 风量

适用行业及范围

适用于食品加工厂、 肉类加工厂、 屠宰场、 家禽饲料场、 造纸厂、 污水处理厂、 垃圾转运站、 粪便处理、 炼油厂、 橡胶厂、 皮革厂、 印刷厂、 化工厂、 医院、 中西药厂、 金属铸造厂、 塑料再生厂、 喷涂溶剂厂、 电镀电焊厂等有机和无机物恶臭气体的脱臭净 化处理

规格表

活性炭UV一体机

净化原理

废气在设备内通过具有一定能量的光照射，光敏半导体材料即被光激发出电子 - 空穴对，吸附在 光敏半导体表面的溶解氧、水及污染物分子接受光生电子或空穴，从而发生一系列的氧化还原反应，使 污染物降解为二氧化碳和水等物质。在外加紫外线的作用下，介质放电产生大量携能电子轰击污染物分 子，使其电离、解离和激发，然后便引发一系列复杂的物理、化学反应，使复杂的大分子污染物转变为 简单小分子安全物质，从而使污染物得以降解去除。然后极小部分未被裂解的污染物进入活性炭吸附床， 有机污染物被吸附于活性炭的微孔之中，最终排放洁净的气体。

规格