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EM-KLEEN远程等离子清洗机 应用领域:可用于电子显微镜等分析仪器,如SEM、FIB、TEM样品室的清治,XPS和SIMS |
广泛用于SEM扫描电镜,FIB聚焦离子束双束电镜,TEM透射电镜,XPS_X射线光电子能谱分析仪,ALD原子层沉积系统,CD-SEM, EBR, EBI, EUVL和其它高真空系统,可同时清洁真空腔室和样品!
远程等离子清洁的原理
远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上,控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体,分解输入气体而产生氧或氢的活性基,活性基会扩散到下游的真空腔室,并与其中的污染物发生化学反应,反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洗机可同时清洁真空系统和样品。
特点:
快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。不需减速或关闭涡轮分子泵
低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专利多级气体过滤技术,SEMI-KLEEN能够满足用户最苛刻的颗粒污染清除要求
可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器,以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用
特有的等离子强度传感器可实时监测等离子状态,用户对等离子状态一目了然
基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器,无需手动调节针阀
直观的触摸屏操作,可定义60条清洗程序方案
拥有智能安全操作模式和专家控制模式;SmartScheduleTM定时装置,通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统
低电磁干扰设计,安静的待机模式